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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

    化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)“行星式反應(yīng)器模塊,用于在150/200毫米襯底(Si/藍(lán)寶石/SiC)上應(yīng)用氮化鎵,可提高生產(chǎn)率和晶圓性能"
    型號(hào): AIX G5+ C 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 19:12:40 對(duì)比
  • 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

    化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能,以應(yīng)對(duì)全球大趨勢(shì)"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
    型號(hào): AIX G5 WW... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 19:08:47 對(duì)比
  • 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

    化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX 2800G4-TM (IC2)“基于 GaAs/InP 的光電子學(xué)和射頻應(yīng)用的 HVM 最佳反應(yīng)器"
    型號(hào): AIX 2800G... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 19:05:13 對(duì)比
  • 金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)

    金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)MOCVD主要由真空室反應(yīng)系統(tǒng)、氣體(載氣與氣相有機(jī)源)輸運(yùn)控制系統(tǒng)、有機(jī)源蒸發(fā)輸運(yùn)控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護(hù)報(bào)警系統(tǒng)組成...
    型號(hào): MOCVD 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 19:03:08 對(duì)比
  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
    型號(hào): 線列式PECVD 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:59:08 對(duì)比
  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室(分別沉積P、I、N結(jié))、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽...
    型號(hào): Cluster P... 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:54:49 對(duì)比
  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室(分別沉積P、I、N結(jié))、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、射頻電...
    型號(hào): PECVD 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:52:34 對(duì)比
  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積

    高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
    型號(hào): PECVD 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:48:50 對(duì)比
  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
    型號(hào): EB700 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:44:16 對(duì)比
  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
    型號(hào): EB900 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:40:30 對(duì)比
  • 高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組...
    型號(hào): DZS500 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:36:16 對(duì)比
  • 高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。熱...
    型號(hào): DZ450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:29:32 對(duì)比
  • 高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
    型號(hào): DZ350 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:25:49 對(duì)比
  • 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室(外延室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
    型號(hào): LMBE450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:21:18 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): JGP560 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:17:28 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): JGP450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:13:49 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
    型號(hào): PC450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:09:07 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): TRP450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:05:28 對(duì)比
  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途:用于...
    型號(hào): 線列式 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 18:02:04 對(duì)比
  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途:用于...
    型號(hào): SMART 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 17:58:42 對(duì)比

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