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深圳市矢量科學儀器有限公司

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高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號JGP450

品牌沈陽科儀

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地沈陽市

更新時間:2025-06-05 18:13:49瀏覽次數(shù):542次

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產(chǎn)品概述:
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

設(shè)備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

1.產(chǎn)品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途:
用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

3.真空室結(jié)構(gòu):
圓筒形上升蓋尺寸例如φ450×350mm,采用不銹鋼材料制造,可進行內(nèi)烘烤,接口處采用金屬墊圈或氟橡膠圈密封。
真空室尺寸:φ450×350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa包括分子泵和機械泵,通過超高真空閘板閥主抽,并設(shè)有旁路抽氣 
沉積源:永磁靶3套,φ2英寸
樣品尺寸,溫度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面積(長x寬x高):約2米×1.5米×2米
電控描述:全自動
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%







濺射系統(tǒng)

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