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深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 21:53:24 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
多片式MOCVD系統(tǒng)
Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)，優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制，MOCVD 即金屬有機物化學(xué)氣相沉積，是一種用于生長化合物半導(dǎo)體薄膜的技術(shù)。它通過將Ⅲ族...
型號： Satur系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:32:47 對比

Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)北方華創(chuàng)
多功能刻蝕機
GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設(shè)計，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆?？刂颇芰姟⒁拙S護、性能穩(wěn)定...
型號： GSE C200 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:28:16 對比

多功能刻蝕機 GSE C200 北方華創(chuàng)
臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)
HORIC L200 系列臥式 LPCVD氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案....
型號： HORIC L20... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:43:28 對比

HORIC L200 系列臥式 LPCVD 系統(tǒng)氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
擴散/氧化系統(tǒng)
HORIC D200系列擴散/氧化系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺,安全性能高：設(shè)備及所使用的元件符合國標和國際標準。
型號： HORIC D20... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:38:36 對比

HORIC D200系列擴散/氧化系統(tǒng)北方華創(chuàng)
碳化硅高溫氧化爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔...
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:32:05 對比

VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐退火爐北方華創(chuàng)
8英寸立式爐
FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術(shù)，可實現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝。
型號： FLOURIS 2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:22:58 對比

8英寸立式爐 FLOURIS 201系列退火爐北方華創(chuàng)
12英寸金屬刻蝕機
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
型號： NMC 612G 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

12英寸金屬刻蝕機 NMC 612G 北方華創(chuàng)
高密度刻蝕機
GDE C200系列高密度刻蝕機，等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機北方華創(chuàng)
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號： eVictor A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:46 對比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:01:00 對比

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:54:13 對比

Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
型號： Orion Pro... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:43:59 對比

Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
12英寸立式低溫退火爐
THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐，優(yōu)良的壓力控制系統(tǒng),高精度溫度場控制技術(shù)。
型號： THEORIS A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:39:22 對比

12英寸立式低溫退火爐 THEORIS A302L 北方華創(chuàng)
12英寸單片清洗設(shè)備
Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設(shè)備。
型號： Saqua SC3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:34:10 對比

12英寸單片清洗設(shè)備 Saqua SC3080A系列北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設(shè)備
WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
型號： WE3102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:28:23 對比

WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
8英寸槽式清洗設(shè)備
WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋優(yōu)良槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。
型號： WE2102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:29:19 對比

WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
芯片刻蝕機
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號： ELEDE... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

芯片刻蝕機 ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
濺射系統(tǒng)
iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:22:41 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD AlN 北方華創(chuàng)
濺射系統(tǒng)
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:18:05 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD ITO 北方華創(chuàng)

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