1.產(chǎn)品概述：

該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。

2.產(chǎn)品應(yīng)用：

在實(shí)際應(yīng)用中，這種系統(tǒng)常用于半導(dǎo)體、光電子、有機(jī)電子等域，用于制備各種有機(jī)薄膜、金屬薄膜或復(fù)合薄膜，以滿足不同器件和材料的研究與開(kāi)發(fā)需求。

3.真空室:

沈陽(yáng)科學(xué)儀器的高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) DZ350的詳細(xì)介紹可能因具體型號(hào)和配置而有所不同

真空室結(jié)構(gòu):U形開(kāi)門(mén)

真空室尺寸:φ350×400mm

限真空度:≤6.6E-5Pa

沉積源:2個(gè)鎢舟、2個(gè)有機(jī)源

樣品尺寸，溫度:50mmx50mm，1片，高300℃

占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)，方便用戶(hù)設(shè)置和調(diào)整工藝參數(shù)，如蒸發(fā)溫度、沉積時(shí)間等。

手動(dòng)：樣品臺(tái)：擁有可旋轉(zhuǎn)或可移動(dòng)的樣品臺(tái)，以便均勻沉積薄膜。

工藝:不含工藝