1.產品概述：
該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。該系統可與手套箱對接。
2.設備用途：
熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等。
3.真空室：
真空室結構:方形開門
真空室尺寸:400×400×450mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:3個鎢舟、2個有機源
樣品尺寸，溫度:4寸，1片，高800℃
占地面積（長x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米
電控描述:全自動
工藝:片內膜厚均勻性：≤±5%
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