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半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備: 耗材 7 真空互聯(lián)系統(tǒng) 6 晶圓鍵合工藝設(shè)備 5 刻蝕設(shè)備 4 外延系統(tǒng) 3 CVD 2 PVD 1 光刻設(shè)備

其他前道工藝設(shè)備: 7 CMP 9 倒片機 3 鍍膜設(shè)備 8 氧化設(shè)備、退火設(shè)備 10 其他 6 清洗設(shè)備 5 去膠設(shè)備 4 離子注入設(shè)備 1 蒸發(fā)設(shè)備 2 真空干燥設(shè)備

電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam
電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam 概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、...
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電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜機
熱蒸發(fā)鍍膜機Thermal Evaporation
熱蒸發(fā)鍍膜機Thermal Evaporation 設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并...
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