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深圳市矢量科學儀器有限公司

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磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SMART

品牌沈陽科儀

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地沈陽市

更新時間:2025-06-05 17:58:42瀏覽次數(shù):299次

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產(chǎn)品概述:
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
設(shè)備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

1.產(chǎn)品概述:

本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)??赏ㄟ^直流濺射及射頻濺射方式鍍膜,能制備各種金屬、合金薄膜、非金屬薄膜、化合物薄膜等。可濺射材料廣泛,包括各種金屬、合物薄膜、非金屬薄膜、化合物薄膜等。濺射模式多樣,例如直流濺射、反應濺射、斜靶共濺射等。采用計算機控制,具有液晶顯示屏、鼠標鍵盤操作,windows 會話界面,操作簡便,并支持自動控制和手動控制兩種方式,可實現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過程的全自動化操作。

2.設(shè)備用途:

用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目

3.真空室

真空室結(jié)構(gòu):六邊形側(cè)開門

真空室尺寸:φ350x370mm

限真空度:≤6.0E-4Pa

沉積源:永磁靶1套,φ2英寸

樣品尺寸,溫度:φ2英寸,1片,高800℃

占地面積(長x寬x高):約1米x1米x1.9米

電控描述:手動

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%


濺射系統(tǒng)

iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng),采用托盤形式,可兼容 2/4/6

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