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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 新型離子槍

    通過采用結(jié)合空心陽極離子槍和磁控管離子槍的新型離子槍，可實現(xiàn)了超精細結(jié)構(gòu)的薄膜。
    型號： ESC-101 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:41:07 對比

  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD

    提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:39:32 對比

  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快...
    型號： PlasmaPro... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:37:08 對比

  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD

    PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統(tǒng)。可...
    型號： PlasmaPro... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:35:07 對比

  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD

    設(shè)計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應(yīng)力、電學(xué)特性和濕法化學(xué)刻蝕速率的前提下，生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。PlasmaPro 100 ...
    型號： PlasmaPro... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:33:35 對比

  • AE物理氣相沉積平臺

    AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經(jīng)濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標、生產(chǎn)需求...
    型號： NEXDEP 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:31:56 對比

  • 電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVD

    該ICPCVD工藝模塊設(shè)計用于在低生長溫度下生產(chǎn)高質(zhì)量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現(xiàn)，從而實現(xiàn)優(yōu)秀的薄膜質(zhì)量，同時減少基板損傷。
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:29:37 對比

  • 單晶圓刻蝕系統(tǒng)

    憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術(shù)既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:27:42 對比

  • 電感耦合等離子體刻蝕

    PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統(tǒng)利用高密度電感耦合等離子體實現(xiàn)快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:25:56 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機。
    型號： EIS-1500 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:21:41 對比

  • 科瓦普物理氣相沉積平臺

    科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應(yīng)用提供了緊湊、經(jīng)濟且仍然強大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實驗室而設(shè)計，該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生...
    型號： COVAP 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:20:05 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。
    型號： EIS-200ER... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:18:17 對比

  • 掩模對準光刻機

    MA200 3代掩模對準光刻機專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工。本系統(tǒng)集全場光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的...
    型號： MA200 Gen... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:16:08 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-HAYATE是由ELIONIX研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻機，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯誤的應(yīng)用。
    型號： ELS-HAYAT... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:12:29 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN是由ELIONIX開發(fā)的電子束光刻機，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。
    型號： ELS-BODEN 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:10:56 對比

  • 多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

    MS450高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備詳細組成及功能如下：真空室：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過程的純凈性。濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原...
    型號： MS450 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:09:18 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN Σ這是ELONIX自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻機。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構(gòu)和防振臺，為...
    型號： ELS-BODEN... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:07:35 對比

  • Riber分子束外延系統(tǒng)

    Riber分子束外延系統(tǒng)的 multi 4“ / 6" MBE 6000 是全球每個成功的大批量商家或內(nèi)部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復(fù)性的MBE基準...
    型號： MBE 6000 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:05:20 對比

  • Beneq C2R--空間原子層沉積ALD

    Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝...
    型號： 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:03:32 對比

  • 分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

    分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE49全自動生產(chǎn)機器為材料質(zhì)量、產(chǎn)量、產(chǎn)量以及與操作和維護相關(guān)的成本設(shè)定了行業(yè)標準。超過55個這樣的系統(tǒng)已經(jīng)在全球范圍內(nèi)交付，他們?yōu)榭?..
    型號： MBE 49 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:01:42 對比
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