您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
| 參 考 價(jià): | 面議 |
產(chǎn)品型號
品牌Beneq
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地芬蘭
更新時間：2025-06-06 07:03:32瀏覽次數(shù)：423次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|
1.產(chǎn)品概述：
Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達(dá)幾微米。
2.產(chǎn)品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項(xiàng)。
自動化服務(wù)包括：
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機(jī)器人
樣品對準(zhǔn)器
可選預(yù)熱和冷卻
3.產(chǎn)品優(yōu)勢：
超高沉積速率，高達(dá)每小時幾微米
批量 PEALD 工藝，適用于多達(dá) 7 個 200 mm 晶圓
適用于厚度達(dá) 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用
可配備負(fù)載鎖或晶圓自動化
 |
 |
 |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
| 評價(jià)時間 | 類別 | 詳細(xì)內(nèi)容 | 評價(jià)者 | IP地址 |
化工儀器網(wǎng)