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深圳市矢量科學儀器有限公司

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等離子增強化學氣相沉積PECVD

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號PlasmaPro 1000

品牌OXFORD/英國牛津

廠商性質經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-06 07:39:32瀏覽次數(shù):339次

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提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案,LED工業(yè)要求高產(chǎn)量,高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。

1.產(chǎn)品概述:

提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案,LED工業(yè)要求高產(chǎn)量,高器件質量和低購置成本。PlasmaPro1000更好地解決了這些需求。

2.設備原理:

PECVD技術是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應,終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。

3.產(chǎn)品特點:

真更大的批量生產(chǎn)能力

高產(chǎn)量

更穩(wěn)定的器件質量

低購置成本

提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置

標準的真空傳送腔室,具有直開式和集群式選項

出色的正常運轉時間

高質量器件性能和良率藝

4.設備工藝

490mm電-更為先進的批量規(guī)模,多達7x6"晶圓,提供了更高的產(chǎn)量

可靠的硬件系統(tǒng)易維護性-出色的正常運轉時間

壓盤-增強晶圓冷卻

Z向可移動電-更好的均勻性

雙進氣口-易于工藝調整

特殊的載盤設計-每片晶圓在小的邊緣去除區(qū)域之內(nèi),均獲得有效的冷卻,且易于使用和維護

高導通的徑向(軸對稱)抽氣結構-確保提升了工藝均勻性和速率

提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案,LED工業(yè)要求高產(chǎn)量,高器件質量和低購置成本。PlasmaPro1000更好地解決了這些需求。

490mm電-更為先進的批量規(guī)模,多達7x6"晶圓,提供了更高的產(chǎn)量

可靠的硬件系統(tǒng)易維護性-出色的正常運轉時間

壓盤-增強晶圓冷卻

Z向可移動電-更好的均勻性

雙進氣口-易于工藝調整

特殊的載盤設計-每片晶圓在小的邊緣去除區(qū)域之內(nèi),均獲得有效的冷卻,且易于使用和維護

高導通的徑向(軸對稱)抽氣結構-確保提升了工藝均勻性和速率




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