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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等組成。設(shè)備用途：脈沖激光沉積(Pu...
    型號(hào)： PLD450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:35:21 對(duì)比

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： PLD300 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:33:19 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)...
    型號(hào)： FJL560 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:31:34 對(duì)比

  • SiC分子外延系統(tǒng)

    Epiluvac 產(chǎn)品通常作為完整的系統(tǒng)交付，包括反應(yīng)器模塊、氣體輸送系統(tǒng)、過(guò)程控制、安全系統(tǒng)、安裝和調(diào)試。每個(gè)系統(tǒng)在發(fā)貨前都經(jīng)過(guò)廣泛的測(cè)試，一旦安裝，交付還包...
    型號(hào)： Epiluvac ... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:29:12 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的WS-650-8 B 型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （1...
    型號(hào)： WS-650-8B 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:26:47 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的WS-650-23B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
    型號(hào)： WS-650-23... 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:24:33 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的H6-15系列勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款650系列HL涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納高達(dá)300mm 的晶圓...
    型號(hào)： H6-15 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:22:10 對(duì)比

  • 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積MOCVD

    Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實(shí)現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性，以及低缺陷率。Vee...
    型號(hào)： TurboDisc... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:20:01 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的H6-23型的勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 150m...
    型號(hào)： H6-23 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:18:04 對(duì)比

  • 勻膠機(jī)

    H6-8型勻膠機(jī)機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號(hào)： H6-8 所在地：美國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:13:08 對(duì)比

  • 金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

    用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級(jí) ...
    型號(hào)： Propel 30... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:07:25 對(duì)比

  • 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積

    Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng)，用于電源、5G 射頻和光子學(xué)，單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5G 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
    型號(hào)： Propel HV... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 11:03:27 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    用于電池、太陽(yáng)能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。
    型號(hào)： Genesis A... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:59:14 對(duì)比

  • 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備

    適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
    型號(hào)： Lumina AS... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:57:40 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專門(mén)設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶...
    型號(hào)： Beneq TFS... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:53:35 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專門(mén)用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
    型號(hào)： Beneq P15... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:49:10 對(duì)比

  • 離子束沉積設(shè)備

    適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據(jù)存儲(chǔ)制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/...
    型號(hào)： NEXUS IBD 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:44:54 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P800 專門(mén)設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
    型號(hào)： Beneq P80... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:40:45 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P400A 專為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設(shè)計(jì) - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時(shí)間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客...
    型號(hào)： Beneq P40... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:38:45 對(duì)比

  • 離子束沉積設(shè)備

    光掩模制造需要高水平的顆?？刂疲瑫r(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來(lái)，...
    型號(hào)： NEXUS IBD... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 10:35:09 對(duì)比
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