1 产品概述:

      物理气相沉积（PVD）平台是一种在真空环境中，通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子，并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。PVD平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统等部分。AE物理气相沉积平台可能集成了这些关键技术组件，以提供高效、精确的薄膜沉积解决方案。

2 设备用途：

  AE物理气相沉积平台的主要用途包括：

1. 表面改性：通过沉积耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的薄膜，改善基体材料的表面性能。

2. 功能薄膜制备：制备具有光导、压电、磁性、超导等功能的薄膜，应用于电子、光学、传感器等领域。

3. 装饰和?；ぃ涸诟叩凳直怼⒅楸?、建筑材料等表面沉积金属或合金薄膜，提供美观和防腐蚀?；ぁ?/span>

4. 微纳加工：在微电子、半导体、纳米技术等领域，制备高精度、高质量的薄膜结构。

3 设备特点

  高精度和均匀性：通过精确控制沉积参数，如温度、压力、气体流量等，实现薄膜的高精度和均匀性沉积。

  多功能性：支持多种PVD技术，如真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等，满足不同应用需求。

  环保和节能：在真空环境中进行沉积，减少环境污染；采用高效能源利用技术，降低能耗。

  自动化和智能化：集成计算机控制系统，实现自动化操作和智能化监控，提高生产效率和产品质量。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统，以下是其一些技术特点和应用：
技术参数和特点：

不同型号的 Nexdep PVD 设备可能在具体技术指标上存在差异，如果你想了解更详细的信息，可以参考相关产品手册或直接联系 Angstrom Engineering 公司。此外，天津大学大型仪器管理平台和一些采购公告中也有 Nexdep PVD 设备的具体参数信息，例如：

1,腔室尺寸为 400mm（长）×400mm（宽）×500mm（高），带有可拆卸的不锈钢内衬；前门为移门，后门为铰链式结构，采用 O 型圈密封；腔室门集成观察窗并带有防沉积装置。

2,真空系统方面，前级泵采用油泵，抽速不低于 9cfm；主泵采用分子泵，抽速不低于 685L/s；配备 Inficon MPG400 真空规，测量范围从3.75e-9torr 到大气；在洁净、干燥环境下，极限抽真空优于 5e-7torr。

3,蒸镀系统配备 1 套热阻金属蒸发源和 1 个蒸发源电源控制器，热阻蒸发源电源功率可达 2.5kW，采用可控硅电源控制器。

4,膜厚检测系统配备 1 个膜厚检测探头，带有水冷功能以提高检测准确性，探头安装在刚性支架上防止碰撞影响精度。

5,样品台可装载直径为 150mm 的样品，兼容小尺寸样片，带旋转功能，转速 10-30rpm 可调；系统配备自动控制模式的蒸发源挡板和开合式样品台挡板。