国产伦精品一区二区三区视频网站_国产精品亚洲综合一区在线观看_无码激性爽啪啪一二三区_久久久久久国产精品三级_综合影院日本少妇XXX做受_国产一级特黄高清在线大片_欧美一级片免费在线观看_久久久久无码精品国产蜜桃_日本人乱人乱亲乱色视频观看

原子層沉積ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
型號： Genesis A... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:24:21 對比

ALD Beneq 原子層沉積半導體
金屬有機化學氣相沉積MOCVD
Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實現(xiàn)出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Vee...
型號： TurboDisc... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 13:48:50 對比

金屬有機化學氣相沉積 MOCVD
多腔等離子體工藝系統(tǒng)
多腔等離子體工藝系統(tǒng)-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統(tǒng)2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:07:29 對比

Plasma Pro等離子體工藝系統(tǒng)
碳化硅外延系統(tǒng)
MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)主要用于4、6英寸SiC外延工藝。采用水平熱壁式技術(shù)路線，應用優(yōu)良的控溫、控壓算法和專業(yè)的進氣、混流結(jié)構(gòu)，使得整個外延工藝過...
型號： MARS iCE1... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:59:21 對比

碳化硅外延系統(tǒng)MARS iCE115
化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)AIX 2800G4-TM （IC2）“基于 GaAs/InP 的光電子學和射頻應用的 HVM 最佳反應器"
型號： AIX 2800G... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:29:00 對比

HVM 最佳反應器半導體沉積
熱原子層沉積系統(tǒng)
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設計，具備良好的防酸腐蝕能力。
型號： Scaler HK... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:08:14 對比

熱原子層沉積系統(tǒng)Scaler HK430 北方華創(chuàng)
金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)
金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)MOCVD主要由真空室反應系統(tǒng)、氣體（載氣與氣相有機源）輸運控制系統(tǒng)、有機源蒸發(fā)輸運控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護報警系統(tǒng)組成...
型號： MOCVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:57:26 對比

MOCVD
ICP沉積系統(tǒng)
SENTECH SIPAR ICP沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)的各種沉積模式和工藝開發(fā)和設計的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個動態(tài)溫控基板電極...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:51:43 對比

沉積系統(tǒng)ICP ALD PECVD SENTECH
開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVD
SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
型號： SENTECH D... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:46:16 對比

PECVD SENTECH 化學氣相沉積
化學氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)
PD-220N是用于沉積各種硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等離子體CVD系統(tǒng)。 PD-220N在提供薄膜沉積所需的全部功能的同時，占地面積比本公司的傳統(tǒng)系統(tǒng)...
型號： PD-220N 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:41:10 對比

化學氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PD-220N SAMCO
等離子體增強CVD系統(tǒng)
PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco的液態(tài)源CVD...
型號： PD-330STC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:31:17 對比

等離子體增強CVD系統(tǒng)PD-330STC 化學氣相沉積 SAMCO
8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備
詳細介紹ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
型號： Pishow... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:09:34 對比

ICP
電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備
詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學反應，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣...
型號： Haasrode&... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:45:18 對比

CCP
等離子增強化學氣相沉積PECVD
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:39:11 對比

牛津 PECVD
8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備
Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD），通過電感耦合（ICP）產(chǎn)生高密度等離子體，并通過電容耦合（CCP）產(chǎn)生偏壓，可...
型號： Shale... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:35:04 對比

ICP
8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備
詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD），通過平行電容板電場放電產(chǎn)生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
型號： Shale... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:30:52 對比

PECVD
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
EPEE系列等離子化學氣相沉積系統(tǒng)單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆?？刂?滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.
型號： EPEE系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/8/14 14:00:47 對比

EPEE系列等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
金屬化學氣相沉積MOCVD
用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)全自動單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學和高級 ...
型號： Propel 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/13 16:07:47 對比

金屬化學氣相沉積 MOCVD
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、射頻電...
型號： PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/8/13 14:40:44 對比

化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
型號： PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/8/13 13:58:48 對比

化學氣相薄膜沉積

国产日产欧美精品-亚洲国产综合久久精品-色综合色国产热无码一-亚洲欧美日本国产,免费观看一区二区三区_在线观看片A免费不卡观看_亚洲а∨天堂久久精品_99久无码中文字幕一本久道

深圳市矢量科學儀器有限公司

深圳市矢量科學儀器有限公司

會員登錄

收藏該商鋪

提示