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深圳市矢量科學儀器有限公司

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電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號Haasrode® Avior® A

品牌魯汶

廠商性質經銷商

所在地徐州市

更新時間:2025-06-05 21:31:59瀏覽次數(shù):694次

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詳細介紹
CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中,等離子體中會包含大量的活性粒子,與表面原子產生化學反應,生成可揮發(fā)產物后,隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價比和空間利用率上優(yōu)點突出,可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設備

1. 產品概述:

CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中,等離子體中會包含大量的活性粒子,與表面原子產生化學反應,生成可揮發(fā)產物后,隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價比和空間利用率上優(yōu)點突出,可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

單腔室電容耦合等離子體(CCP)機適用于光刻膠殘膠去除(打底膜)、介質刻蝕等工藝可用于6英寸及以下晶圓

2. 系統(tǒng)特性

單腔室電容耦合等離子體(CCP)機臺

適用于光刻膠殘膠去除(打底膜)、介質刻蝕等工藝

可用于6英寸及以下晶圓



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