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當前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號Pishow® A 系列
品牌魯汶
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地徐州市
更新時間：2025-06-05 21:28:05瀏覽次數(shù)：522次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)Pishow® A 系列
8英寸電感耦合等離子體刻蝕（ICP）設(shè)備
1. 詳細介紹
ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)點。目被廣泛應(yīng)用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕?？蓱?yīng)用于大規(guī)模集成電路、MEMS、光波導(dǎo)、光電子器件等域中各種微結(jié)構(gòu)的制作。
2. 系統(tǒng)特性
擁有多種材料刻蝕解決方案，包括硅基材料、金屬、III-V和其他化合物半導(dǎo)體
可提供高低溫（-10℃至+150℃）工藝模式
可提供ALE解決方案，實現(xiàn)對刻蝕速率和均勻性的高精度控制
具備Bosch工藝能力，可提供高深寬比硅深槽或深孔刻蝕解決方案
適用于8英寸晶圓，并可向下兼容，提供單腔式和多腔式等多種腔室搭配方式
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