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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

    分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE49全自動生產(chǎn)機器為材料質(zhì)量、產(chǎn)量、產(chǎn)量以及與操作和維護相關(guān)的成本設(shè)定了行業(yè)標準。超過55個這樣的系統(tǒng)已經(jīng)在全球范圍內(nèi)交付，他們?yōu)榭?..
    型號： MBE 49 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:01:42 對比

  • MPI探針臺

    VEGA系列概述MPI VEGA 探針系列已準備好滿足激光二極管（VCSEL、EEL）和光學(xué)模塊市場的各種測試和材料處理要求。
    型號： VEGA系列 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:59:59 對比

  • RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)

    RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)正受到越來越多與工業(yè)合作伙伴合作開展應(yīng)用項目的關(guān)鍵研究機構(gòu)的關(guān)注。這種興趣的增加部分歸因于 4 英寸（或 3 x 2 英...
    型號： MBE 412 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:57:45 對比

  • 晶圓探測器

    UX50 晶圓探測器亮點廣泛的應(yīng)用范圍：450 kV和大檢測范圍可選擇線陣列和/或平板探測器，最大限度提高靈活性用于擴展視場和圖像處理的CT技術(shù)借助Geminy...
    型號： UX50 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:55:24 對比

  • 掩模對準光刻機

    掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:53:37 對比

  • 緊透尺寸檢測系統(tǒng)

    可靠、快速和可重復(fù)的手動和自動檢測基于VoidInspect的自動氣泡計算易于使用的動態(tài)增強過濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
    型號： Cougar EV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:51:43 對比

  • MBE分子束外延系統(tǒng)

    RIBERMBE分子束外延系統(tǒng)Compact 21 已成為有史以來最成功的商用 3 英寸 MBE 系統(tǒng)。憑借核心 Compact 21 DNA 在所有配置（II...
    型號： Compact 2... 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:49:28 對比

  • 原子層沉積儀器ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層，是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰極和陽極的鈍化，用于柔性太陽...
    型號： Genesis A... 所在地：臺北市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:46:58 對比

  • 涂膠和顯影機

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機是創(chuàng)新組件和經(jīng)過生產(chǎn)驗證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
    型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:45:12 對比

  • 微焦點X射線檢查系統(tǒng)

    可靠、快速和可重復(fù)的手動和自動檢測基于VoidInspect的自動氣泡計算易于使用的動態(tài)增強過濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
    型號： Cheetah E... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:43:24 對比

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產(chǎn)旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:41:23 對比

  • 檢測系統(tǒng)

    CA20 設(shè)計用于通過最高分辨率提供的2D和3D圖像，能夠以最快速度檢測微米級細節(jié)，并有助于縮短復(fù)雜CA20 亮點專為半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計采用非破壞性技術(shù)，可在數(shù)分鐘...
    型號： CA20 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:39:04 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備

    詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:37:25 對比

  • 8英寸等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備

    詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），通過平行電容板電場放電產(chǎn)生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
    型號： Shale... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:35:35 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備

    Shale® C系列電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（ICP-CVD），通過電感耦合（ICP）產(chǎn)生高密度等離子體，并通過電容耦合（CCP）產(chǎn)生偏壓，可...
    型號： Shale... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:33:51 對比

  • 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備

    詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣...
    型號： Haasrode&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:31:59 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備

    Pishow® D 系列深刻蝕設(shè)備，是針對8英寸~6英寸產(chǎn)線或科研深硅刻蝕工藝的專用設(shè)備，擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:29:54 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備

    詳細介紹ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:28:05 對比

  • 8英寸金屬刻蝕設(shè)備

    Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設(shè)備為可用于8英寸的IC產(chǎn)線鋁金屬工藝的量產(chǎn)型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕均...
    型號： Kessel... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:25:35 對比

  • 8英寸硅刻蝕設(shè)備

    Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設(shè)備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch cham...
    型號： Tebaank&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:24:03 對比
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