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深圳市矢量科學儀器有限公司

多功能刻蝕機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號GSE C200

品牌北方華創(chuàng)

廠商性質經(jīng)銷商

所在地北京市

更新時間:2025-06-05 12:27:24瀏覽次數(shù):1232次

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GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計,保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源,刻蝕速率高、均勻性好、顆??刂颇芰?、易維護、性能穩(wěn)定。其在硅、氧化硅、氮化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦、鈮酸鋰、金屬、有機物等多種材料的刻蝕上性能優(yōu)良。本刻蝕機已進入多家IC Fab主流產線以及化合物等新興應用量產產線,具有快速導產能力,同時針對大學、科研院所提供高性價比配置。

1. 產品概述

GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計,保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源,刻蝕速率高、均勻性好、顆??刂颇芰姟⒁拙S護、性能穩(wěn)定。其在硅、氧化硅、氮化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦、鈮酸鋰、金屬、有機物等多種材料的刻蝕上性能優(yōu)良。本刻蝕機已進入多家IC Fab主流產線以及化合物等新興應用量產產線,具有快速導產能力,同時針對大學、科研院所提供高性價比配置。

2. 設備用途/原理

GSE C200 多功能刻蝕機,等離子體源設計,保證良好的刻蝕均勻性。適用于濾波、光電、功率等多個應用領域的多種材料刻蝕與失效分析。刻蝕材料種類覆蓋硅、氮化硅、氧化硅、銻化鎵、聚酰亞胺、鈮、金屬、有機物等。提供研發(fā)所需的豐富的工藝數(shù)據(jù)庫支持。

3. 設備特點

晶圓尺寸 8 英寸及以下,適用材料 硅、氧化硅、氮化硅、氮化鎵、金屬、有機物等,適用工藝多種材料刻蝕工藝適用領域科研。

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