1.產(chǎn)品概述：
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導地位，實現(xiàn)當下無缺陷的EUV掩?？瞻?/span>。
2.產(chǎn)品工藝：
光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來，Veeco已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應(yīng)用。
3.產(chǎn)品優(yōu)勢：
經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺
低的缺陷密度
優(yōu)異的均勻性和可重復性
高反射率
在同一腔室中沉積多種材料
可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中
化工儀器網(wǎng)