您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>2 PVD>> FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號FJL560
品牌沈陽科儀
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地沈陽市
更新時間：2025-06-06 11:31:34瀏覽次數(shù)：352次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1.產(chǎn)品概述：
高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng)，用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
2.產(chǎn)品工藝：
真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上升蓋
真空室尺寸:φ550x450mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:磁控靶3套，φ2英寸；
四工位轉(zhuǎn)靶1套；
樣品尺寸，溫度:φ2英寸，6片。高可以到達(dá)800℃
占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米
電控描述:全自動控制
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
濺射源：考夫曼離子源 Kaufman 2套，φ2英寸
 |
 |
 |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
| 評價時間 | 類別 | 詳細(xì)內(nèi)容 | 評價者 | IP地址 |
化工儀器網(wǎng)