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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>2 PVD>> FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)

高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)FJL560

品牌沈陽科儀

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地沈陽市

更新時(shí)間:2025-06-06 11:31:34瀏覽次數(shù):355次

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產(chǎn)品概述:
高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用可行軟件控制系統(tǒng)。
設(shè)備用途:
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

1.產(chǎn)品概述:

高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng),用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

2.產(chǎn)品工藝

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上升蓋

真空室尺寸:φ550x450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:磁控靶3套,φ2英寸;

四工位轉(zhuǎn)靶1套;

樣品尺寸,溫度:φ2英寸,6片。高可以到達(dá)800℃

占地面積(長x寬x高):約3米×1.1米×2米

電控描述:全自動(dòng)控制

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%

濺射源:考夫曼離子源 Kaufman 2套,φ2英寸



濺射系統(tǒng)

iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng),采用托盤形式,可兼容 2/4/6

卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)

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