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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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    共計(jì) 349 條產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
    SE-MSP光譜橢偏儀顯微分光光度計(jì)
    SE-MSP光譜橢偏儀顯微分光光度計(jì)
    簡單介紹:對于某些應(yīng)用(例如MEMS或半導(dǎo)體產(chǎn)品晶圓上的功能),希望有一個(gè)小的探測點(diǎn)。將顯微分光光度計(jì)與橢圓偏振光度計(jì)集成在一起后,工具的功能將大大擴(kuò)展??赏ㄟ^橢圓偏振光度法在超薄膜上工作,并且還具有通過微反射法與橢圓度計(jì)和微分光光度計(jì)相結(jié)合的*配置的小面積微反射法。
    產(chǎn)品型號:SE-MSP   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    TFProbe IRSE紅外光譜橢偏儀IRSE
    TFProbe IRSE紅外光譜橢偏儀IRSE
    簡單介紹:紅外光譜橢圓儀(IRSE)可以表征材料的結(jié)構(gòu)(厚度,界面,表面粗糙度,污染),光學(xué)(光學(xué)常數(shù)),電(導(dǎo)電性)以及化學(xué)信息。
    產(chǎn)品型號:TFProbe IRSE   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    CPT-ULTRA-19超聲噴涂系統(tǒng)
    CPT-ULTRA-19超聲噴涂系統(tǒng)
    簡單介紹:超聲噴涂系統(tǒng)應(yīng)用廣泛,各類材料制備噴涂,太陽能電池噴涂,薄膜電池噴涂,鈣鈦礦電池制備噴涂等其他各類自動(dòng)化噴涂工藝應(yīng)用。比如:鈣鈦礦制備氧化鎳,氧化錫,氧化鈦的電子傳輸層制備設(shè)備。
    產(chǎn)品型號:CPT-ULTRA-19   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    高精度狹縫擠出式涂布機(jī)(可適配于套箱)
    高精度狹縫擠出式涂布機(jī)(可適配于套箱)
    簡單介紹:狹縫式涂布技術(shù)( SlotDie Coating)優(yōu)點(diǎn)為涂膜均勻性高、可適用的涂料黏度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。
    產(chǎn)品型號:   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    AS-OneAS真空快速退火爐
    AS-OneAS真空快速退火爐
    簡單介紹:AS真空快速退火爐,性能ZYUE,可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃,Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。
    產(chǎn)品型號:AS-One   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    AS-Micro真空快速退火爐
    AS-Micro真空快速退火爐
    簡單介紹:AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。
    產(chǎn)品型號:AS-Micro   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    200ml Export packNaphrax 硅藻膠/封固劑
    200ml Export packNaphrax 硅藻膠/封固劑
    簡單介紹:Naphrax是一種溶解在甲苯中的合成樹脂。由于其與硅藻殼的表面接觸,其分辨率品質(zhì)至少等于折射率為1.74的封固劑。
    產(chǎn)品型號:200ml Export pack   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):¥1490 詢價(jià)留言
    Tergeo小型等離子去膠機(jī)
    Tergeo小型等離子去膠機(jī)
    簡單介紹:美國Tergeo系列臺(tái)式等離子去膠機(jī)專為實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的小型等離子去膠設(shè)備,等離子強(qiáng)度探測器實(shí)時(shí)定量檢測等離子狀態(tài)。
    產(chǎn)品型號:Tergeo   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    M6 Spin CoaterMINN M6勻膠旋涂儀
    M6 Spin CoaterMINN M6勻膠旋涂儀
    簡單介紹:MINN M6勻膠旋涂儀 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作,簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,專為實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的勻膠涂覆設(shè)備。M6 Spin Coater在材料、化學(xué)或生物等實(shí)驗(yàn)室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。
    產(chǎn)品型號:M6 Spin Coater   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    納米壓印光刻膠
    納米壓印光刻膠
    簡單介紹:公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料,熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品,如模板防粘劑、基片增粘劑等。
    產(chǎn)品型號:   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000
    2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000
    簡單介紹:SU-8 2000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
    產(chǎn)品型號:2035/2050/2075/2100   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    KW-4E可控溫型智能程控KW勻膠機(jī)
    KW-4E可控溫型智能程控KW勻膠機(jī)
    簡單介紹:可控溫型智能程控KW勻膠機(jī)-4E可控溫型智能程控勻膠機(jī),帶進(jìn)膠保護(hù)與報(bào)警 ,旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換 ,旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕。
    產(chǎn)品型號:KW-4E   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    UV-1800UV-1800紫外/可見分光光度計(jì)
    UV-1800UV-1800紫外/可見分光光度計(jì)
    簡單介紹:掃描型分光光度計(jì),波長范圍寬,滿足各種領(lǐng)域的需求。
    ?光譜帶寬選擇的三種選擇:5nm,2nm,1nm,可根據(jù)客戶需求進(jìn)行選擇,滿足藥典要求
    ?手動(dòng)4格支架可容納長距離長100mm的電池。
    ?來自世界有名制造商的優(yōu)化的光學(xué)和電子設(shè)計(jì),光源和檢測器確保了高性能和可靠性
    ?豐富的測量方法:波長掃描,時(shí)間掃描,多波長確定,多階導(dǎo)數(shù)確定,雙波長方法和三波長方法等,滿足不同的測量要求。
    產(chǎn)品型號:UV-1800   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
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    3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠
    3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠
    簡單介紹:SU-8 3000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光刻膠,專為微加工和其他微電子應(yīng)用中,
    需要化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進(jìn)配方,已被廣泛采用
    由MEMS生產(chǎn)商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應(yīng)力。
    SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。
    產(chǎn)品型號:3010/3005/3025/3050   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
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    2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000
    2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000
    簡單介紹:SU-8 2000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
    產(chǎn)品型號:2005/2010/2025   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Model18美國Jelight紫外臭氧清洗機(jī)
    Model18美國Jelight紫外臭氧清洗機(jī)
    簡單介紹:Jelight紫外臭氧清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮┑哪康?。是清除硅、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的較安全、較有效的方法。 除清洗外,Jelight紫外臭氧清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì),如通過紫外處理后,涂層與表面的粘附力可大大增加,可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合
    產(chǎn)品型號:Model18   所在地:國外   更新時(shí)間:2025-07-01
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    Solaris 150UV快速退火爐
    Solaris 150UV快速退火爐
    簡單介紹:美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達(dá)到200mm,溫度可以達(dá)到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進(jìn)氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
    產(chǎn)品型號:Solaris 150UV   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
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    Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS
    Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS
    簡單介紹:快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。
    產(chǎn)品型號:Solaris Eclipse   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐
    Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐
    簡單介紹:SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。
    產(chǎn)品型號:Solaris 100 /150/200   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
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    SE200/SE300/SE350/SE500光譜橢偏儀 DUV-VIS-NIR
    SE200/SE300/SE350/SE500光譜橢偏儀 DUV-VIS-NIR
    簡單介紹:光譜橢偏儀可配置從DUV到NIR的波長范圍。DUV范圍可用于測量超薄膜,如納米厚度范圍。比如硅晶片上的原生氧化物,其通常僅為約1至2nm厚。當(dāng)用戶需要測量許多材料的帶隙時(shí),深紫外光譜橢偏儀也是*的。可見或近紅外范圍用于測量相對厚或非常厚的涂層。
    產(chǎn)品型號:SE200/SE300/SE350/SE500   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-01
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