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迈可诺技术有限公司

主营产品: 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机

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产品图片 产品名称
SPR955-CM光刻胶SPR955
SPR955-CM光刻胶SPR955
简单介绍:光刻胶SPR955 MEGAPOSIT SPR955-CM系列光刻胶是一种通用的、高分辨率的i-Line光刻胶,可用于0.35µm的前端和后端应用。也与底层胶LOR/PMGI-SF搭配,做lift-off 工艺
产品型号:SPR955-CM   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥500 询价留言
AZ1500(90cp)AZ1500系列G线光刻胶
AZ1500(90cp)AZ1500系列G线光刻胶
简单介绍:AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶
为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特征:
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于*半导体行业
产品型号:AZ1500(90cp)   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥220 询价留言
AZ1500(38cp)AZ1500系列G线光刻胶
AZ1500(38cp)AZ1500系列G线光刻胶
简单介绍:AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶
为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特征:
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于*半导体行业
产品型号:AZ1500(38cp)   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥220 询价留言
AZ1500(20cp)AZ1500系列G线光刻胶
AZ1500(20cp)AZ1500系列G线光刻胶
简单介绍:AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶
为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特征:
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于*半导体行业
产品型号:AZ1500(20cp)   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥220 询价留言
AZ1500(4.4cp)AZ1500系列i线光刻胶
AZ1500(4.4cp)AZ1500系列i线光刻胶
简单介绍:AZ1500系列i线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶
为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特征:
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于*半导体行业
产品型号:AZ1500(4.4cp)   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥200 询价留言
s1800shipley s1813光刻胶
s1800shipley s1813光刻胶
简单介绍:shipley s1813光刻胶
S1800系列, 正胶、紫外光刻胶。
光源推荐:g-Line,也可以用于宽谱。
单层厚度:0.4-2.7um。
型号:
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
应用:
应用于湿法腐蚀和干法刻蚀,也与底层胶LOR搭配,做lift-off 工艺。
产品型号:s1800   所在地:武汉市   更新时间:2025-08-04
参考价:¥100 询价留言
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