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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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AvCarb碳紙MGL190 MGL370 簡(jiǎn)單介紹：AvCarb碳紙MGL190 MGL370，MGL280是適用于燃料電池和電解槽應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)復(fù) 寫紙。 新產(chǎn)品展示了優(yōu)于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)，憑借可比較的性能和性能數(shù)據(jù)， MGL 產(chǎn)品可與其他行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)復(fù)寫紙互換使用。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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VSU45真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為420x420mm 紅外燈交叉放置在工具板下方和蓋子中。尺寸為420x420mm的方形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過(guò)設(shè)計(jì)，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內(nèi)-適用于批量生產(chǎn)。通過(guò)從腔室底部吹向工具板的氮?dú)饬鬟M(jìn)行工藝?yán)鋮s。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU45 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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VSU28真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為260x210mm 置于工具板下方（或可選地，也位于上方）的紅外燈將其加熱。尺寸為260x210mm的矩形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過(guò)設(shè)計(jì)，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內(nèi)-適用于批量生產(chǎn)。通過(guò)從腔室底部吹向工具板的氮?dú)饬鬟M(jìn)行工藝?yán)鋮s。腔室本身是水冷的。如果未與安裝機(jī)架MR23CP一起訂購(gòu)，則需要外部冷 產(chǎn)品型號(hào)：VSU28 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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VSU20真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐，加熱區(qū)域直徑為200mm 真空回流爐配備有一個(gè)由實(shí)心鋁制成的熱板，上面涂有陶瓷。另一個(gè)水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時(shí)，將冷板抬起并壓在熱板上，從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進(jìn)行冷卻。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU20 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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VSU12真空回流焊爐12 簡(jiǎn)單介紹：真空回流焊爐12放置在工具板上的紅外燈將其加熱。該工具板為正方形,尺寸為100x100mm,可以用任何合適的材料制成。也可以預(yù)制帶有定制開口的內(nèi)部固定裝置。可以將工具板及其上的零件一起更換。這樣可以進(jìn)行批量生產(chǎn)。氮?dú)饬鲝那皇业撞看迪蚬ぞ甙?從而將其冷卻。腔室本身是空氣冷卻的。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU12 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MSMA-1200M光刻機(jī)Mask MSMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。 產(chǎn)品型號(hào)：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MMA16光刻機(jī)Aligner MMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機(jī)Aligner MMA16），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦 產(chǎn)品型號(hào)：MMA16 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MR200精密金剛石晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*MR200手動(dòng)精密金剛石晶圓劃片機(jī)準(zhǔn)確切割結(jié)構(gòu)化硅晶片，是理想工具-半導(dǎo)體技術(shù)的制造。MR 200的設(shè)置和設(shè)備可為定義的結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制造。 MR200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實(shí)驗(yàn)室中使用。 產(chǎn)品型號(hào)：MR200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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EC200-DUO控制器preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過(guò)在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-DUO控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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EC200-K/EC200控制器preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過(guò)在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-K/EC200控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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高折射率膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：高折射率粘合劑，用于粘合玻璃，塑料和可進(jìn)行UV固化和/或熱固化的金屬。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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低折射率膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：低折射率粘合劑。用于粘接玻璃或塑料的粘度 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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CM3030膠體金試紙切條機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：膠體金試紙切條機(jī)適合膠體金試條的切割，也可加裝定位傳感器切血糖條等。 性能特點(diǎn)：切條機(jī)是快速診斷試劑的專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備之一，應(yīng)用于生產(chǎn)過(guò)程中把片材材料快速切割成寬度試劑條，設(shè)備經(jīng)過(guò)國(guó)內(nèi)大型生產(chǎn)廠家使用驗(yàn)證和用于批量生產(chǎn)，實(shí)用、穩(wěn)定、可靠； 產(chǎn)品型號(hào)：CM3030 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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血脂試紙非接觸式裁切機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：血脂試紙非接觸式裁切機(jī)針對(duì)人工邊線對(duì)位，定位孔定位。類型的設(shè)備無(wú)需編輯程序。操作簡(jiǎn)單快捷 采用進(jìn)口HSS-AL高速合金鋼刀片，具有很好的耐磨性，且經(jīng)久耐用。 可估計(jì)客戶需要度鈦處理，一般可使用2到3年無(wú)需要修磨。 設(shè)備可定位為生產(chǎn)線上的單獨(dú)工位，配合生產(chǎn)線進(jìn)行全自動(dòng)生產(chǎn)。 設(shè)備操作簡(jiǎn)單，不要反復(fù)翻轉(zhuǎn)界面設(shè)置項(xiàng)目，人工光學(xué)對(duì)位功能無(wú)需編輯程序。 邏輯符合人性思維，給人舒適、輕松的工作狀態(tài) 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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AFIXX 20m鍵合機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：AFIXX 20m 鍵合機(jī)手動(dòng)系統(tǒng) 臺(tái)式系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于手動(dòng)將單個(gè)基板臨時(shí)粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專為實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的臨時(shí)粘合技術(shù)。這是一個(gè)多功能系統(tǒng)，非常適合許多R＆D應(yīng)用程序。AFIXX 20m配備有加熱板，可將載體或基材加熱到200℃。 產(chǎn)品型號(hào)：AFIXX 20m 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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BASIXX ST20+勻膠涂膜機(jī)ST20+ 簡(jiǎn)單介紹：勻膠涂膜機(jī)ST20+ 實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式勻膠機(jī) 是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動(dòng)系統(tǒng)，旨在為科學(xué)和研究領(lǐng)域的用戶提供高效，安全和清潔的實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)。 該設(shè)備具有易于使用的界面和7英寸彩色觸摸屏。 該軟件包含程序菜單管理，例如編寫，編輯，保存和加載。 服務(wù)區(qū)提供用于手臂和旋轉(zhuǎn)板以及介質(zhì)控制的設(shè)置選項(xiàng)。 還集成了可通過(guò)USB保存的軟件更新功能以及日志文件和程序備份功能。 產(chǎn)品型號(hào)：BASIXX ST20+ 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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HT20eUNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái)，HT20e設(shè)計(jì)用于基材的單面烘烤，用于預(yù)烘烤和后烘烤或脫水烘烤過(guò)程。尤其適用于粘合劑底漆（HMDS;六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的熱板模塊。帶有電子可編程升降針的烘烤模塊，配有觸摸屏，便于操作。 軟件提供了簡(jiǎn)單方便的過(guò)程控制和配方創(chuàng)建。 界面簡(jiǎn)單易于使用，可隨時(shí)控制流程。這些溫度模塊有臺(tái)式安裝式，塔式安裝式或獨(dú)立式供選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：HT20e 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MR 200晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MR200 晶圓劃片機(jī) 手動(dòng)劃線可無(wú)誤切割 結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造 MR 200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制備。MR 200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實(shí)驗(yàn)室中使用。設(shè)備基本設(shè)置為劃線參數(shù)的調(diào)整提供了多種選擇。高質(zhì)量的變焦光學(xué)元件可將放大倍率從8倍無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)到40倍。光學(xué)和機(jī)械學(xué)可以通過(guò)輔助模塊進(jìn)行擴(kuò)展，以提高效率和操作 產(chǎn)品型號(hào)：MR 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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