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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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负胶显影液PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯） 简单介绍：负胶显影液PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）作为负胶显影工艺中的关键溶剂，在微电子制造中发挥着重要作用。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-08-05 |
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238正胶显影液TMAH 四甲基氢氧化铵 简单介绍：正胶显影液TMAH 四甲基氢氧化铵 能选择性地溶解未曝光的光刻胶，留下已曝光部分形成所需的图形，从而将掩膜版上的图案精确转移到硅片等衬底材料上。同时，它还可用于硅片的湿法刻蚀，对硅等材料进行腐蚀加工，制作微机电系统（MEMS）结构，如加速度计、压力传感器等。 产品型号：238 所在地：武汉市 更新时间：2025-08-05 |
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200KPMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 简单介绍：PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 是一种用途广泛的聚合物，适用于多种成像和非成像微电子应用。它常被用作电子束直写、X 射线和深紫外光刻工艺中的高分辨率正性光刻胶，也可用作晶圆减薄的?；ね坎?、键合粘合剂以及牺牲层。 产品型号：200K 所在地：武汉市 更新时间：2025-08-05 |
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184PDMS预聚物聚二甲硅氧烷与固化剂套件 简单介绍：PDMS预聚物聚二甲硅氧烷与固化剂套件。型号:184，品牌:道康宁，产地:美国，成分PDMS 和固化剂，混合比例:10:1。 产品型号：184 所在地：武汉市 更新时间：2025-08-05 |
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S111ITO玻璃基板（无图案） 晶圆片 简单介绍：ITO玻璃基板（无图案） 晶圆片，其厚度统一为1.1毫米，采用经过抛光的钠钙浮法玻璃作为基底材料。 产品型号：S111 所在地：武汉市 更新时间：2025-08-04 |
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硅片、单晶硅 简单介绍：硅片、单晶硅，用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体光刻 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-29 |
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Elcocarb B/DCSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/DC 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B/DC 产品型号：Elcocarb B/DC 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Elcocarb B-L/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B-L/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B-L/SP 产品型号：Elcocarb B-L/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Elcocarb B/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿导电碳层浆料，Elcocarb B/SP 产品型号：Elcocarb B/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Zr-Nanoxide ZT/SPSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/SP 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿绝缘层浆料，Zr-Nanoxide ZT/SP 产品型号：Zr-Nanoxide ZT/SP 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Zr-Nanoxide ZT/DCSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/DC 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿绝缘层浆料，Zr-Nanoxide ZT/DC 产品型号：Zr-Nanoxide ZT/DC 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-09 |
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Spiro-OMeTADSOLARONIX钙钛矿空穴传输层 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿空穴传输层材料，Spiro-OMeTAD 产品型号：Spiro-OMeTAD 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-08 |
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Methylammonium IodideSOLARONIX钙钛矿前驱体 简单介绍：瑞士进口SOLARONIX ，钙钛矿前驱体，Methylammonium Iodide。 产品型号：Methylammonium Iodide 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-08 |
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ET500 ET505 ET510双组份环氧树脂胶粘剂 简单介绍：Permabond双组份环氧树脂胶粘剂适用于粘接各种材料。它们具有一系列不同的固化速度，并为要求苛刻的粘接应用提供高标准的性能。它们几乎用于每个行业，从航空航天、汽车、电子和电动机，一直到食品接触应用。 产品型号：ET500 ET505 ET510 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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ES550 ES558 ES562单组分环氧树脂胶粘剂 简单介绍：热固化环氧胶粘剂 Permabond单组分环氧树脂胶粘剂适用于粘接各种材料。它们具有一系列不同的粘度，可带或不带金属填料。Permabond环氧树脂的开发旨在为要求苛刻的粘接应用提供高标准的性能。 产品型号：ES550 ES558 ES562 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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EtchantsTransene二氧化硅 (SiO?) 蚀刻液 光刻胶 简单介绍：Transene二氧化硅 (SiO?) 蚀刻液 光刻胶，高纯度缓冲HF蚀刻剂，适用于热生长或沉积的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蚀刻剂是半导体应用的理想选择，它能够最小化蚀刻不足的情况，并具有广泛的兼容性?；撼逖趸锸纯碳帘曜挤⒒跏辈缓砻婊钚约??？筛菀筇砑臃荘FAS表面活性剂。 产品型号：Etchants 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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??TransistKemLab光刻胶 简单介绍：KemLab光刻胶 TRANSIST系列产品与大多数湿法蚀刻液具有出色的兼容性，为微电子应用提供可靠、高分辨率的解决方案。TRANSIST提供正性和负性两种工作方式的光敏抗蚀剂， 产品型号：??Transist 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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mr-NIL200-100nm纳米压印光刻胶 mr-NIL200 系列 简单介绍：纳米压印胶 mr-NIL200 系列——专为高精度图案转移设计的紫外光固化解决方案。自粘附配方，无需底涂，专为硬质印章（石英/OrmoStamp®）设计。 产品型号：mr-NIL200-100nm 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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mr-NIL210-100nm纳米压印光刻胶mr-NIL210系列 简单介绍：mr-NIL210系列是一款专为软紫外纳米压印技术（soft UV-NIL）设计的光固化纳米压印胶，特别适配于PDMS类软质印章材料（推荐使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成为图案转移工艺中理想的蚀刻掩模材料。 产品型号：mr-NIL210-100nm 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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PKP-308PIKemLab负性光刻胶 简单介绍：美国KemLab负性光刻胶 PKP-308PI 具有改进的分辨率、附着力、耐蚀刻性、低针孔密度，是负性光刻胶中综合性能最佳的选择。在使用过程中无需对光刻胶进行膜过滤?？墒迪治⒚准侗鸬姆直媛剩以谏泄饪探汗ひ漳鼙３指叨瓤芍馗葱?。 产品型号：PKP-308PI 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-02 |
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