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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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阅读：184 发布时间：2020/12/09
ICP / RIE蚀刻应用范围：
- Si，SiO2，SiN蚀刻工艺
- Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金属蚀刻工艺
- 晶圆尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圆
RIE 等离子刻蚀案例：
SiO2 / SiN蚀刻
80 sccm CF4，均匀性<5％，在6英寸晶圆上
几种功率水平下的压力与蚀刻速率（如下图）：
PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料，拥有?？榛皇液偷缂渲?，可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小，触摸屏计算机控制，多级程序控制和组件控制，操作简单。用于研究、工艺开发和批量生产，可轻松集成到自动化生产线和系统中。
腔室/电极
PlasmaSTAR®?？榛皇液偷缂榧?/span>是该系统的*功能。腔室材料是硬质阳极氧化铝，耐腐蚀。有几种不同的电极设计，包括用于反应离子刻蚀（RIE）和平面处理的水冷平板电极，用于表面清洗或处理的交替托盘电极，用于小化离子损伤的下游电极，和用于普通的圆柱形等离子体处理的笼式电极。
标配圆柱形“桶”式电极
用于光刻胶剥离和各向同性刻蚀
RIE电极（可选配）
用于各向异性蚀刻的水冷电极
隔板电极（可选配）
用于各向同性蚀刻，标配2块电极
等离子体源
该系统可选配LF（KHz）或13.56（MHz）射频电源以及自动匹配网络。
真空泵系统
该系统配机械泵或带罗茨鼓风机的机械泵。根据所需的真空处理水平，可提供不同尺寸大小的真空泵。真空泵配有腐蚀性泵油（惰性泵油），适用于氧气或其他腐蚀性化学应用。流量控制器（MFC）的气体管路是标配。下游压力控制器是选配。
电脑控制
触摸屏电脑控制，提供无线程序存储，多步骤工艺简单易存，易于编程，实时显示工艺条件。工艺处理可用条形码读?。ㄑ∨洌?。
其中较典型的等离子处理工艺包括：
? 等离子预处理
? 光刻胶去胶
? 表面处理
? 各向异性和各向同性蚀刻
? 故障分析应用
? 材料改性
? 封装清洗
? 钝化层刻蚀
? 聚酰胺刻蚀
? 促进粘合
? 生物医学应用
? 聚合反应
? 混合清洗
? 预键合清洗
