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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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阅读：131 发布时间：2020/11/19
产业链转移的quanqiu大趋势为中国大陆集成电路行业的发展提供了新机遇。
diyi次产业转移（美国→日本）：技术、利润含量较低的封装测试环节。
第二次产业转移（日本→韩国、中国台湾）：集成电路精细化分工。
第三次产业转移（韩国、中国台湾→中国大陆）：第三阶段转移为产业规模。
据第三方统计，至2022年quanqiu光刻胶市场规模将超过100亿美元。
受益于半导体、显示面板、PCB产业东移的趋势，2019年中国光刻胶市场本土企业销售规模约70亿元，quanqiu占比约10%，发展空间巨大。目前，中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。在紫外光等光照或辐射下，溶解度会发生变化的薄膜材料。
按曝光波长，可主要分为G-line、I-line、KrF、ArF d&ArF i、EUV等光刻胶。
在大规模集成电路的制备中，光刻胶要通过预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影和蚀刻等环节，将光罩（掩膜版）上的图形转移到硅片上。
光刻胶是集成电路制造的重要材料，光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。
光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%，并且耗时约占整个芯片工艺的40%-50%。光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4%，市场巨大。
