本机是一款全自动晶片刷洗机，全程封闭环境采用机械手自动操作，具备刷洗甩干功能，适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗，可有效减少晶片表面颗粒污染。
功能齐全
具备刷洗甩干功能，全程封闭环境机械手操作，风险小，避免二次污染
操作简便
PLC触摸屏控制，机械手自动完成cassette to cassette的全自动晶片刷洗工作
兼容性好
可兼容2、4、6英寸晶片
占地面积小
尽量减少洁净间的占地面积
性能参数
- 北方华创
- KEYSIGHT/美国是德
- ULVAC/日本爱发科
- SAMCO
- Veeco
- SENTECH
- 沈阳科仪
- 特思迪
- UNITEMP/尤尼坦
- SUSS
- Nikon/日本尼康
- 其他品牌
- OXFORD/英国牛津
- PVA TePla
- LEBO/雷博
- CIF
- Beneq
- 鲁汶
- 芯源
- KURT.J.LESKER
- 响河
- Laurell
- STELLA/海德堡仪器
- G&P
- Yxlon
- 韩国真空/IOKOVA
- 托托科技
- ELIONIX
- 矢量科学
- 爱思强
- MPI
- 英斯特
- Angstrom
- ADT
- RIBER
- ESPEC/爱斯佩克
- Formfactor
- 珞佳智能
- Canon/佳能
- KOSAKA/小坂研究所
- 智程
- ERS
- PVD
- AdNaNo/铠柏
- Hitachi/日立
- HORIBA/堀场
- 美国标乐
- ficonTEC
- 博捷芯
- F&S
- 华卓精科
- 至纯
- Scienta Omicron
- TRESKY
- 米开罗那
- 尼普洛
- 泉一
- Raith
- NORDSON/美国诺信
- KEYENCE/基恩士
- Coherent
- MTS/美国美特斯
- ZEISS/蔡司
- Bruker/布鲁克
- Kruss/克吕士
- FEI/赛默飞
- 日本电子
- Rigaku/理学
- 天仁微纳
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