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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā)，操作簡單，成本低。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:21:54 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:18:37 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CEANE... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應(yīng)商，襯...
    型號： GNP POLI系... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:01:43 對比

  • 全自動CMP晶圓清洗一體機

    韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
    型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:50:12 對比

  • 晶圓濕法清洗工作臺

    WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個版本——手動加載 （ML） 和 3300 系列...
    型號： 3300系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比

  • 真空計

    皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
    型號： SW系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:14:39 對比

  • 真空泵

    VS系列是旋片式（單級）的油旋轉(zhuǎn)真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩(wěn)定。此外，設(shè)計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
    型號： VS系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:11:17 對比

  • 批量晶圓處理等離子系統(tǒng)

    批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計，其模塊化控制系統(tǒng)使用最新一代處理器，基于 Linux 平臺作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (GUI)。因此，可支持手動和全...
    型號： GIGAbatch 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:43:06 對比

  • 條形等離子清潔系統(tǒng)

    80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
    型號： 80 Plus 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:27:06 對比

  • 大氣式等離子清潔系統(tǒng)

    PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
    型號： PlasmaPen... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:25:12 對比

  • LSA 201 環(huán)境控制激光尖峰退火設(shè)備

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系統(tǒng)具有與 LSA101 相同的架構(gòu)，可在掃描激光系統(tǒng)中實現(xiàn)全晶圓環(huán)境控制。該微室在于它不需要使用真空負...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:23:08 對比

  • LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備

    LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備 系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點的先進邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
    型號： 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:20:44 對比

  • IVG-2040/3040 --全自動單軸減薄機

    全自動單軸減薄機是一款高精度、高效率的研削設(shè)備，專為半導體制造、硅片加工、光學材料處理及薄膜材料制備等領(lǐng)域設(shè)計。
    型號： 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:58:49 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米（8 英寸）晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。
    型號： RTP-200 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:30:56 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 75 K/sec。，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜...
    型號： RTP-150-H... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:26:46 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降...
    型號： RTP-150-E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:19:55 對比
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