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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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定制型Cargille标准浸入液（桶装） 简单介绍：美国Cargille浸入液配方是类似于标准的折射率匹配液，但通常更便宜。他们是定制混合在5893 埃米和25°C，精度可达到±0.0005范围内的nD 1.293 - 1.570。偏离标准规格可供改变波长、温度、和准确性，但需提供额外的费用。 产品型号：定制型 所在地：武汉市 更新时间：2025-07-01 |
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E132Ossila 用于光伏和OLED封装的环氧树脂 简单介绍：环氧树脂 一种适用于太阳能电池和OLED封装的光固化环氧树脂，可固化波长高达350 nm，可安全用于大多数有机材料。 用于PV和OLED封装的环氧树脂，可用作有机发光二极管和有机光伏器件的粘合剂，不会损坏聚合物或阴极。结合玻璃盖板，可防氧气和水进入，从而延长测量和储存的使用寿命。 产品型号：E132 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Tergeo小型等离子去胶机 简单介绍：美国Tergeo系列台式等离子去胶机专为实验室，研发和小规模生产部门提供性价比高的小型等离子去胶设备，等离子强度探测器实时定量检测等离子状态。 产品型号：Tergeo 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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M6 Spin CoaterMINN M6匀胶旋涂仪 简单介绍：MINN M6匀胶旋涂仪 可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片，使用无刷直流双向旋转马达控制，转速稳定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩触屏人机界面操作，简单易用。M6 Spin Coater外形美观，结构紧凑，专为实验室，研发和小规模生产部门提供性价比高的匀胶涂覆设备。M6 Spin Coater在材料、化学或生物等实验室被广泛用于薄膜制备，纳米薄膜研究等相关领域。 产品型号：M6 Spin Coater 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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纳米压印光刻胶 简单介绍：公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂等。 产品型号： 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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2035/2050/2075/2100光刻胶SU-8 2000 简单介绍：SU-8 2000是一种高对比度，基于环氧的光致抗蚀剂，设计用于微加工和其他微电子应用，需要厚，化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥，极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。 SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。 产品型号：2035/2050/2075/2100 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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KW-4E可控温型智能程控KW匀胶机 简单介绍：可控温型智能程控KW匀胶机-4E可控温型智能程控匀胶机，带进胶?；び氡ň?，旋涂正反转可自由切换 ，旋涂腔室整体采用PTFE材料防酸防碱防腐蚀。 产品型号：KW-4E 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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UV-1800UV-1800紫外/可见分光光度计 简单介绍：扫描型分光光度计，波长范围宽，满足各种领域的需求。 ?光谱带宽选择的三种选择：5nm，2nm，1nm，可根据客户需求进行选择，满足药典要求 ?手动4格支架可容纳长距离长100mm的电池。 ?来自世界有名制造商的优化的光学和电子设计，光源和检测器确保了高性能和可靠性 ?丰富的测量方法：波长扫描，时间扫描，多波长确定，多阶导数确定，双波长方法和三波长方法等，满足不同的测量要求。 产品型号：UV-1800 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻胶 简单介绍：SU-8 3000是一种高对比度，基于环氧的光刻胶，专为微加工和其他微电子应用中， 需要化学和热稳定的图像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改进配方，已被广泛采用 由MEMS生产商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。 SU-8 3000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120 µm。 产品型号：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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2005/2010/2025光刻胶SU-8 2000 简单介绍：SU-8 2000是一种高对比度，基于环氧的光致抗蚀剂，设计用于微加工和其他微电子应用，需要厚，化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥，极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。 SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。 产品型号：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Model18美国Jelight紫外臭氧清洗机 简单介绍：Jelight紫外臭氧清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的较安全、较有效的方法。 除清洗外，Jelight紫外臭氧清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，可用于生物芯片制作过程中PDMS键合 产品型号：Model18 所在地：国外 更新时间：2025-07-01 |
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byko-drive XLbyko-drive XL自动涂膜器 简单介绍：byko-drive XL自动涂膜器的设计灵活，可用于涂布涂料和油墨。干膜外观受涂布速度和施加在涂膜器上的压力影响。该涂膜器的速度调控范围为5-500 mm/s，标准的增幅为1mm/s。将可互换的重物在涂膜器的整个工作长度上施压，以获得*的涂膜厚度。推杆可与各种尺寸的线棒涂膜器、条形涂膜器、框架式涂膜器和涂膜刀配合使用。 该涂膜器带触摸显示屏，可方便地设置操作参数：移动速度、开始位置和行程长度。 产品型号：byko-drive XL 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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byko-drivebyko-drive自动涂膜器 简单介绍：byko-drive自动涂膜器是一款经济型的涂膜器，可以提高拖拉涂膜的稳定性。当多个操作者涂布相同的油漆或油墨时，由于拖拉技术不同，干膜外观也不一样。拖拉速度和施加在 涂膜器上的压力影响结果。不同的拖拉技术会带来膜厚、光泽、不透明度和颜色等的变化。 byko-drive附带真空泵和带夹子的玻璃板?？墒褂锰跣瓮磕?器、U型涂膜器、框架式涂膜器、涂膜刀和线棒等涂膜器。byko-drive设计非常紧凑， 产品型号：byko-drive 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris 150UV快速退火炉 简单介绍：美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 产品型号：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris Eclipse快速退火炉系统SS 简单介绍：快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。 产品型号：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火炉 简单介绍：SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。 产品型号：Solaris 100 /150/200 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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美国Futurrex光刻胶 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号： 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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PR3、PR41Futurrex去胶液 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：PR3、PR41 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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RD3、RD6美国Futurrex显影液 简单介绍：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。 产品型号：RD3、RD6 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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mr-I 7000E、mr-I 8000E德国Micro Resist纳米压印胶 简单介绍：德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。 产品型号：mr-I 7000E、mr-I 8000E 所在地：北京市 更新时间：2025-07-01 |
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