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G&P Technology成立于1999年，正如其名稱“研磨和拋光”所暗示的那樣，致力于為大學(xué)、研發(fā)組織和MEMS公司提供精確且負(fù)擔(dān)得起的CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）系統(tǒng)和服務(wù)。G&P Technology與亞洲、歐洲和美國的CMP實(shí)驗(yàn)室合作，包括許多大學(xué)和MEMS研發(fā)廠的CMP實(shí)驗(yàn)室。G&P Technologies還為耗材制造商提供咨詢和評(píng)估服務(wù)，以改進(jìn)和開發(fā)其CMP應(yīng)用產(chǎn)品。G&P Technology還執(zhí)行政府和私營部門的研究項(xiàng)目，為大學(xué)和研發(fā)社區(qū)提供下一代工藝系統(tǒng)和特殊應(yīng)用開發(fā)。全球已安裝了100多個(gè)用于研究和開發(fā)的系統(tǒng)。最近，一個(gè)由12英寸POLI-762和Cleaner-812L組成的集成系統(tǒng)，后CMP清洗系統(tǒng)已在研發(fā)和半生產(chǎn)線上得到廣泛應(yīng)用。G&P Technology希望繼續(xù)在CMP領(lǐng)域提供用戶友好的智能系統(tǒng)。