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GNP CEANER-412S CMP后清洗機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

半導(dǎo)體清洗濕法

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

適用晶圓尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:噴淋清洗、單邊刷清洗、旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)

清潔器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

電刷尺寸:070(外徑)032(內(nèi)徑)170()毫米

刷隙調(diào)節(jié):PLC自動控制(可選刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

化學(xué):NH4OH ~ 1%

可用刷型:雙面PVA

電刷轉(zhuǎn)速:最高400rpm

旋轉(zhuǎn)速度:手動加載與自動順序,濕入/干出,最大2,000rpmDIW沖洗/ N2

2. 工藝流程

手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC




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