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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法清洗设备>GNP CLEANER-812L CMP后清洗机

GNP CLEANER-812L CMP后清洗机

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述

适用晶圆尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:独立配置4个清洗工位,DIW刀预清洗,2个双面滚刷清洗,N2吹旋转漂洗干燥(可选分离式QDR)清洁器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

电刷尺寸:70(外径)32(内径)320()毫米

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗

辊刷工位

化学:nh4oh<1%)或DIW

刷型:双面PVA

转速:<满量程的±2%范围30 ~ 300rpm

化学品供应:4个喷嘴和通过刷子

可用化学:2化学[NH4OH]            

化学品流量:满量程< 1L/min

DI流量:满量程<5L/min

转站

旋转速度:2500/DIW冲洗/ N2

控制工艺:自动上片,自动顺序,湿进/干出

程序控制:PC & PC触摸监控,程序可编程,计算机网络可比




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