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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>化学机械抛光机(CMP)>GNP POLI-PCB系列 CMP

GNP POLI-PCB系列 CMP

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述:

G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要运用于研发,操作简单,成本低。

2. GNP POLI-1300PCB型CMP规格:

机头,工作台:30 ~ 120rpm,旋转运动,机头摆动范围(20°)

尺寸:2000W 2600D 2500H mm

压板尺寸:Φ1300 mm,阳氧化铝压板冷却结构(不含冷水机)

封头尺寸:Φ930毫米,阳氧化铝

压制方法:可变空气压力电子控制器25x25”或Φ900毫米的

PCB尺寸工艺:自动顺序,干/湿摇臂刷护发素PLC程序和触摸屏

应用程序

工件:大直径762mm(30英寸),封装基板     

 

3. GNP POLI-1300-PCB型CMP规格:

机头,工作台:30 ~ 120rpm,旋转运动,机头摆动范围(20°)

尺寸:1650W 2100D 2500H mm

压板尺寸:1016毫米(40英寸),阳氧化铝压板冷却结构(不含冷水机)

封头尺寸:760毫米,阳氧化铝              

压制方法:可变空气压力电子控制器20x20”或730毫米的

PCB尺寸工艺:自动顺序,干/湿摇臂钻石盘调理剂或刷调理剂PLC程序和触摸屏

应用程序

工件:大直径1000mm,封装基板







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