PICOSUN™ R-200高級型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場的，在擁有百用戶。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司和研究機(jī)構(gòu)的研發(fā)工具。

        靈活的設(shè)計(jì)確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應(yīng)用。的熱壁設(shè)計(jì)、獨(dú)立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計(jì)，使得無顆粒沉積廣泛應(yīng)用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深寬比和納米顆粒表面沉積，系統(tǒng)都能實(shí)現(xiàn)的均勻性，這些都?xì)w功于我們的技術(shù)Picoflow™。Picosun™R-200高級型系統(tǒng)配備功能強(qiáng)大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體源。高效率和擁有的遠(yuǎn)程等離子選項(xiàng)可以沉積金屬而不發(fā)生短路，不存在等離子體損壞的危險(xiǎn)。系統(tǒng)可集成手套箱，超高真空系統(tǒng)、手動(dòng)或半自動(dòng)加載系統(tǒng)，集群系統(tǒng)，粉末反應(yīng)腔，卷對卷反應(yīng)腔和各種在線分析系統(tǒng)，使您的研究變得高效和靈活。即使將來您改變研究領(lǐng)域，它依就會(huì)是您幫手！