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這臺(tái)高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù)，它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)，使得我們能夠在小至1µm的微...

大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開(kāi)發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而...

多功能高低溫真空探針臺(tái),電-光-氣接口齊全，應(yīng)用場(chǎng)景不受限。可實(shí)現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制?？膳c各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測(cè)試儀、光伏測(cè)試儀、半導(dǎo)體參數(shù)...

等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強(qiáng)）/AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)為AT650P

小型臺(tái)式 ALD（原子層沉積）工具專為簡(jiǎn)單的操作和安裝而設(shè)計(jì)，而不會(huì)犧牲其性能，用于成本效益型研究與開(kāi)發(fā)。

粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡(jiǎn)單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使...

AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無(wú)應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的樣品前處理方...

WK6500系列精密阻抗分析儀七種機(jī)型：20Hz~5MHz，10MHz，15MHz，20MHz，30MHz，50MHz和120MHz，符合客戶不同采購(gòu)需求

WK6500P高頻LCR表系列適用于生產(chǎn)線上高頻LCRMeter的量測(cè)，本機(jī)種一共有七種機(jī)型，分別20HZ~5MHz，20HZ~10MHz，20HZ~15MHz...

布魯克的HysitronTl980Tribolndenter同時(shí)具有優(yōu)異的性能、靈活性、可靠性、可用性和速度

德國(guó)SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長(zhǎng)溫度，晶體生長(zhǎng)腔壓力可達(dá)300bar，甚至10-5mbar的高真空

PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零...

PICOSUN™R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場(chǎng)的，在擁有百用戶

PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)，PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...

CAM-C系列流延機(jī)面向較少資金投入的客戶設(shè)計(jì)，提供了更高的自動(dòng)化水平，更高的精度和緊湊型設(shè)計(jì)，是一個(gè)真正創(chuàng)新型流延機(jī)

小批量應(yīng)用的流延機(jī)，適合250mm載帶寬度，采取重力供應(yīng)漿料方式

VibroMet2振動(dòng)拋光機(jī)可通過(guò)幾乎水平方向的振動(dòng)，搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用，可去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到高質(zhì)量的拋...