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深圳市矢量科學儀器有限公司

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物理氣相沉積PVD

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號NEXUS

品牌Veeco

廠商性質經(jīng)銷商

所在地國外

更新時間:2025-06-06 12:26:11瀏覽次數(shù):363次

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Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米,具有先進的工藝能力、均勻性和多種沉積模式

1. 靈活的沉積平臺服務于廣泛的應用

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積(PVD)系統(tǒng),為各類薄膜沉積應用提供了極大的靈活性和多功能性,使其在當今快速發(fā)展的技術環(huán)境中脫穎而出。無論是在半導體、光電子材料、顯示技術還是其他高科技領域,NEXUS PVD 都能夠滿足客戶的多樣化需求。

該系統(tǒng)的加工精度高達 200 毫米,不僅保證了沉積過程的精確控制,還使得它能夠支持多種不同的工藝需求。NEXUS PVD 的先進工藝能力,結合=均勻性,確保了每一層沉積膜的質量和性能都達到行業(yè)水平。這種優(yōu)質的性能在提高整體工藝產(chǎn)量方面發(fā)揮了關鍵作用,用戶能夠以更高的良率實現(xiàn)高效生產(chǎn)。

此外,NEXUS PVD 平臺彰顯了出色的吞吐量和正常運行時間,顯著降低了設備的擁有成本。這意味著客戶可以在保持高產(chǎn)量的同時,減少維護和運營成本,進一步提升投資回報率。

2. NEXUS 平臺還集成了 Veeco 多項技術

包括離子束沉積、離子束蝕刻和原子層沉積(ALD),使得該系統(tǒng)具備處理多種沉積需求的能力。離子束沉積能夠實現(xiàn)高質量薄膜的沉積,適合于對膜厚均勻性和膜缺陷有嚴格要求的應用;而離子束蝕刻技術則用于精細圖案的刻制,更好地滿足高精度集成電路制造的需要。原子層沉積技術則在沉積極薄膜方面表現(xiàn),適用于高技術含量的光電材料、傳感器及其他前沿科技領域。

Veeco 的 NEXUS PVDi 系統(tǒng)通過其頂尖的靈活性、可靠性和高效性,為廣泛的薄膜沉積應用提供了解決方案,幫助客戶在競爭激烈的市場中保持地位。無論是從技術創(chuàng)新還是經(jīng)濟效益來看,NEXUS PVDi 系統(tǒng)都為用戶創(chuàng)造了巨大的增值潛力。

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