Phoenix – 批量生产原子层沉积
1. 生产能力
Phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业制造的任何制造环境中实现高吞吐量和长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上实现可重复、高精度的薄膜沉积。Phoenix®支持多达6条独立的驱体生产线，可根据您的薄膜需求提供固体、液体或气体工艺化学成分。紧凑的占地面积和创新的设计使Phoenix®成为具有批量生产ALD要求的人们的实用选择。
2. 主要功能包括
对工艺参数（包括温度、流量和压力）进行精确的软件控制，即使在敏感的基材上也能实现无缺陷的涂层
获得利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉积物积聚，并大限度地减少多余的工艺气体排放到环境中
大型工艺室可容纳 GEN 2.5 衬底、多个晶圆盒和更大的 3D 物体
拥有成本低，启动和运营成本低
占地面积小，可节省宝贵的洁净室空间
标准配方和 ALD 材料
来自技术团队和博士科学家的全球全面支持和服务
符合 CE、FCC 和 CSA 标准，具有许多内置安全功能
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