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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> IoN 10QIoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)

IoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號IoN 10Q

品牌PVA TePla

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地美國

更新時間:2025-06-06 10:19:03瀏覽次數(shù):500次

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IoN系列等離子清洗去系統(tǒng)具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。 我們提供不同腔體和電極配置,最大腔體可達 1200 升。

IoN系列等離子系統(tǒng)具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。 我們提供不同腔體和電配置,大腔體可達 1200 升。

PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產(chǎn)使用而設計,多可處理 25片晶圓,晶圓大尺寸為 150 毫米。

PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齊全的射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產(chǎn)使用而設計,多可處理50片晶圓,晶圓大尺寸為200毫米。

PVA TePla 的 IoN 單片晶圓去膠機是一款功能齊全的先進射頻等離子機,可用于單片晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產(chǎn)使用而設計,可處理大的晶圓為200毫米。

PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齊全的射頻等離子機 ,可用于表面改性,設計用于實驗室和處理大型基板或大批量生產(chǎn)。 該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。

PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齊全的桌式先進射頻等離子機,可用于表面改性,為實驗室和量產(chǎn)使用而設計,適用于處理較小的基板或中小產(chǎn)量。該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。


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