VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設計的最大的系統(tǒng)。它是平板顯示器 （FPD） 應用的好的選擇，例如 TFT 陣列、彩色濾光片和 ITO。這些工具還用于先進封裝、半導體、LED 和觸摸屏應用的工業(yè)大面積光掩模應用。
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機
大光刻面積VPG+：技術(shù)的領(lǐng)航
大光刻面積的VPG +維持原VPG系列為根基再進化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是擁有專量產(chǎn)型曝光技術(shù)光刻系統(tǒng)，可靠和經(jīng)濟的解決方案，適用于要求嚴謹?shù)难谀ぐ逯圃臁?/span>
速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發(fā)的高速光學調(diào)制器，在速度下，曝光時間可以達到原始VPG的三倍！強化了曝光動能與數(shù)據(jù)傳輸路徑。
功能和選項：配備性能
VPG +可配置各種平臺尺寸，最大可達1400mmx1400mm。 該系統(tǒng)具有355nm波長的紫外激光源，空氣軸承平臺，半自動或全自動入料器，用于基板裝載的溫控環(huán)境室。
應用：光罩制造和直接寫入
大光刻面積的VPG +系統(tǒng)適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及l(fā)ife science應用。出色的圖像質(zhì)量和對位功能，也非常適合在大面積執(zhí)行多層套刻直寫。
VPG+ 最大型的設備VPG+ 1400專門針對顯示器相關(guān)行業(yè)應用：是所有VPG+系列中功能具有極其完善的溫控環(huán)境室，差分干涉儀和先進的mura校正以及面板間距優(yōu)化功能。
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