VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專(zhuān)為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板顯示器 （FPD） 應(yīng)用的好的選擇，例如 TFT 陣列、彩色濾光片和 ITO。這些工具還用于先進(jìn)封裝、半導(dǎo)體、LED 和觸摸屏應(yīng)用的工業(yè)大面積光掩模應(yīng)用。
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)
大光刻面積VPG+：技術(shù)的領(lǐng)航
大光刻面積的VPG +維持原VPG系列為根基再進(jìn)化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是擁有專(zhuān)量產(chǎn)型曝光技術(shù)光刻系統(tǒng)，可靠和經(jīng)濟(jì)的解決方案，適用于要求嚴(yán)謹(jǐn)?shù)难谀ぐ逯圃臁?/span>
速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發(fā)的高速光學(xué)調(diào)制器，在速度下，曝光時(shí)間可以達(dá)到原始VPG的三倍！強(qiáng)化了曝光動(dòng)能與數(shù)據(jù)傳輸路徑。
功能和選項(xiàng)：配備性能
VPG +可配置各種平臺(tái)尺寸，最大可達(dá)1400mmx1400mm。 該系統(tǒng)具有355nm波長(zhǎng)的紫外激光源，空氣軸承平臺(tái)，半自動(dòng)或全自動(dòng)入料器，用于基板裝載的溫控環(huán)境室。
應(yīng)用：光罩制造和直接寫(xiě)入
大光刻面積的VPG +系統(tǒng)適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及l(fā)ife science應(yīng)用。出色的圖像質(zhì)量和對(duì)位功能，也非常適合在大面積執(zhí)行多層套刻直寫(xiě)。
VPG+ 最大型的設(shè)備VPG+ 1400專(zhuān)門(mén)針對(duì)顯示器相關(guān)行業(yè)應(yīng)用：是所有VPG+系列中功能具有極其完善的溫控環(huán)境室，差分干涉儀和先進(jìn)的mura校正以及面板間距優(yōu)化功能。
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