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G線光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號Nikon NSR

品牌Nikon/日本尼康

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-05 10:46:38瀏覽次數(shù):799次

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Nikon NSR G線光刻機
1、Nikon NSR G線步進(jìn)式光刻機
光源波長436nm
分辨率優(yōu)于0.65µm
主要用于2寸、4寸、6寸生產(chǎn)線
廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域
2、產(chǎn)品詳情
主要技術(shù)指標(biāo)
分辨率0.65µm
N.A.0.6
曝光光源436nm
倍率5:1
最大曝光現(xiàn)場15mm*15mm
17.5mm*17.5mm
對準(zhǔn)精度140nm

一、產(chǎn)品概述:

Nikon NSR G線步進(jìn)式光刻機是一款專為半導(dǎo)體制造設(shè)計的高精度設(shè)備,該機型采用 G 線光源和優(yōu)良的步進(jìn)光刻技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移,廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質(zhì)量和快速的曝光速度,NSR G線非常適合大批量生產(chǎn),同時其用戶友好的操作界面和自動化功能大大提升了生產(chǎn)效率。這使得 Nikon NSR G線成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程的重要工具,滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理:

該設(shè)備通過高強度的 G 線光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經(jīng)過高分辨率光學(xué)系統(tǒng),精確地將掩模圖案投影到晶圓上進(jìn)行曝光。曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,接著進(jìn)行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。隨后,采用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon NSR G線能夠高效地實現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。

三、主要技術(shù)指標(biāo):

分辨率

0.65µm

N.A.

0.6

曝光光源

436nm

倍率

5:1

大曝光現(xiàn)場

15mm*15mm
17.5mm*17.5mm

對準(zhǔn)精度

140nm

四、設(shè)備特點

Nikon NSR G線步進(jìn)式光刻機

光源波長436nm

分辨率優(yōu)于0.65µm

主要用于2寸、4寸、6寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等


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