配套 ImageXpress® Micro 共聚焦高內(nèi)涵成像分析系統(tǒng)，可擴高性能的高內(nèi)涵定制化解決方案新鮮出爐啦。高性能定制化方案包括：水浸物鏡 ( 20x、40x、60x 可選 )；5- 和 8- 通道高強度激光光源；深層組織穿透、共聚焦轉盤模塊等模塊。

NEW | 水浸物鏡

水浸物鏡可以提供高達 4 倍* 的信號增強，可以幫助科學家在較低的曝光時間內(nèi)更深入地觀察 3D 和厚組織樣本。

• 增加樣品的穿透深度
• 提高z軸分辨率和球面像差
• 獲得更銳利、更清晰的圖像發(fā)現(xiàn)更多數(shù)據(jù)

NEW | 高強度激光光源

高輸出激光激發(fā)可減少曝光時間高達 75%。

• 獲得更清晰的圖像和更高的信噪比
• 由于顯著減少曝光時間，可提高 2 倍*      的掃描速度
• 使用激光光源用于 CFP 和 YFP 熒光通道，以進行FRET 實驗

NEW | 深層組織穿透、共聚焦轉盤模塊

將標準系統(tǒng)升級至新型的更利于深層組織穿透的共焦盤模塊，并結合激光光源，可以提高成像厚組織樣品時的分辨率。

• 提升對離焦光線的抑制
• 減少霧度 ( 針孔串擾 )
• 深入到較厚的組織樣本中，獲得更清晰的圖像