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Model 6020 全自动掩模曝光机
顶面 / 底面对准
高吞吐量
1 千瓦–8 千瓦准直光束光源,光束尺寸从 12 平方英寸到 20 平方英寸
光源光束均匀性达 3-5%
用于自动对准的高速编码器和电机
SECS/GEM 通信协议兼容性
多种面板处理能力
12 平方英寸到 20 平方英寸的面板
可选分步卡盘,用于子面板加工
14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件
楔形效应调平
工艺重复性
<2.0 微米的印刷分辨率
远程诊断
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