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高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
ECOPIA公司的HMS系列高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀，霍爾效應(yīng)系統(tǒng)，霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)主要由恒電流源、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器、低溫（77K）測(cè)量系統(tǒng)及磁場(chǎng)強(qiáng)度輸入系統(tǒng)組成...
型號(hào)： HMS-3300 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:10:44 對(duì)比

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
霍爾效應(yīng)測(cè)試儀，霍爾效應(yīng)系統(tǒng)主要用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類型等重要參數(shù)，而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的，...
型號(hào)： HMS-3000 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:10:03 對(duì)比

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)系統(tǒng)
等離子刻蝕ICP
等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...
型號(hào)： Minilock-... 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:08:53 對(duì)比

等離子蝕刻等離子蝕刻系統(tǒng)
半自動(dòng)引線鍵合機(jī)，焊線機(jī) （Wire Bonder）
全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，產(chǎn)品原型試產(chǎn)，產(chǎn)品評(píng)估，產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下，同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶。
型號(hào)： WB-200 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:06:28 對(duì)比

鍵合機(jī)半自動(dòng)鍵合機(jī)Wire Bonder 引線鍵合機(jī)
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)：在硅片等基板上附膜時(shí)，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝...
型號(hào)： Toho FLX-... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:03:07 對(duì)比

薄膜測(cè)試薄膜應(yīng)力日本薄膜應(yīng)力薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
旋風(fēng)等離子清洗機(jī)
Tergeo等離子清洗機(jī)，旋風(fēng)等離子清洗機(jī)操作方法：自動(dòng)配方執(zhí)行；自動(dòng)作業(yè)順序執(zhí)行；亦可手動(dòng)操作。工藝控制能力：壓力傳感器、溫度傳感器、MFC氣體流量計(jì)、雙等離...
型號(hào)： Tergeo 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:02:41 對(duì)比

等離子清洗機(jī)旋風(fēng)等離子清洗機(jī)plasma Tergeo 研究型
Tergeo等離子清洗機(jī)
Tergeo等離子清洗機(jī)清洗方式：沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性；遠(yuǎn)程等離子體可以輕微的清除表面污染，如SEM、TEM樣品清洗；脈沖放電后產(chǎn)生等離子體的...
型號(hào)： Tergeo-pl... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/9 17:01:34 對(duì)比

Tergeo等離子清洗機(jī)實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī)臺(tái)式等離子清洗機(jī)研究型等離子清洗機(jī)小批量等離子清洗機(jī)
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶的需求，針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請(qǐng)咨詢德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)
型號(hào)： N系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:55:07 對(duì)比

接觸角測(cè)量?jī)x contact angle 表面張力接觸角測(cè)試
IPA干燥多功能一體清洗系統(tǒng)
液相擴(kuò)散技術(shù)（LDT）提供了各種基材和表面材料的干燥性能性能增強(qiáng)。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動(dòng)擴(kuò)散去除水分，不留...
型號(hào)： Megasonic... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:41:57 對(duì)比

兆聲清洗 Megasonic IPA IPA dryer 多功能清洗系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡(jiǎn)單...
型號(hào)： AT-410 所在地：國(guó)外參考價(jià)： ￥450000 更新時(shí)間：2024/6/17 16:34:26 對(duì)比

原子層沉積系統(tǒng)桌面型原子層沉積臺(tái)式原子層沉積 AT-400原子層沉積
ActiGraph三軸加速體動(dòng)記錄儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
型號(hào)： GT9X Link 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)： ￥4000 更新時(shí)間：2021/4/12 13:33:35 對(duì)比

人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
型號(hào)： wGT3X-BT 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)： ￥3000 更新時(shí)間：2021/4/12 13:19:08 對(duì)比

人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
蝕刻殘留物去除劑
杜邦蝕刻殘留物去除液
型號(hào)： EFC270 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/1/17 13:18:44 對(duì)比

蝕刻殘留物去除劑杜邦液去除劑去除液
刻蝕殘留物去除劑
杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除
型號(hào)： EFC265 所在地：香港特別行政區(qū) 參考價(jià)： ￥1000 更新時(shí)間：2019/1/17 13:03:19 對(duì)比

杜邦液蝕刻殘留物去除劑蝕刻去除液 EFC液
聲表面波SAW功率發(fā)生器
聲表面波SAW功率發(fā)生器Fxilie簡(jiǎn)化和加速聲流控實(shí)驗(yàn)的一款高精度，頻率的控制器。
型號(hào)： F系列所在地：國(guó)外參考價(jià)： ￥100000 更新時(shí)間：2019/1/14 14:35:22 對(duì)比

聲表面波 SAW功率發(fā)生器功率發(fā)生器

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