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德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
中級會(huì)員 | 第9年

18721247059

  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng)OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

    型號: Model 200 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/18 14:34:45 對比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)

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