2022/09/22
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近日，NANO-MASTER工程師至廣西師范大學，順利安裝驗收NRE-3000型RIE反應離子刻蝕系統(tǒng)！
詳細參數(shù)：
1. 腔體：10"直徑的圓柱形腔體；陽極氧化鋁材質，抗腐蝕性強；上下蓋設計，氣動升降頂蓋，一鍵實現(xiàn)上蓋的開啟/閉合；淋浴頭設計，最佳的氣流均勻分布
2. 樣品臺：4"樣品臺；冷卻功能；偏壓功能，支持各向異性的垂直刻蝕；
3. 質量流量控制器：4路氣體，每路包含MFC、氣動截止閥和不銹鋼管路氣體
4. 真空系統(tǒng)：分子泵與機械泵，4分鐘內可達10-4Torr的高工藝真空度，12小時抽氣后，干凈腔體中的壓力可達極限真空6x10-7 Torr；分子泵與工藝腔體采用直連設計方案，具有最佳的真空傳導率
5. 射頻電源：13.56MHz，300W，反射功率≤5W，配套自動調諧器，穩(wěn)定輸出功率為95%
6. 控制系統(tǒng)：Lab View軟件控制；四級密碼授權訪問；壓力、流量、功率等主要參數(shù)指標實時顯示；20"的監(jiān)控屏幕
7. 系統(tǒng)信息：26"×26"占地面積；鋁質柜體；*的安全聯(lián)鎖
8. 主要工藝參數(shù)
（1）應用范圍：有機物刻蝕、硅的化合物刻蝕、光刻膠去膠等；
（2）工藝參數(shù)：4"片為：
（3）刻蝕均勻性優(yōu)于：+/-3%；
（4）Si3N4的刻蝕速率：≥50nm/min；
（5）對PR選擇比：≥1.5:1；
（6）陡直度：≥82°；
（7）SiO2的刻蝕速率：≥40nm/min；
（8）對PR選擇比：≥1.5:1；
（9）陡直度：≥85°。
