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SURFTENS HL 200 晶圓接觸角測量儀專為半導體工業(yè)及科研領域開發(fā)，特別適用于硅片表面處理過程中的工藝控制。它是分析硅片接觸角與潤濕性的理想工具，能夠...

FLATSCAN 薄膜應力測試儀用于對各種反射面（如硅片、鏡面、X 射線鏡（Goebel-mirrors）、金屬表面或拋光聚合物）的平整度、表面曲率、平均半徑和...

高精度金剛石晶圓劃片機MR 200 系統(tǒng)軟件的設置和硬件的配置能夠實現高精度的劃線，從而實現對結構化硅片的精準切割。MR 200 是一款非常有力的工具，尤其在半...

CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

LSC4000 半導體晶圓清洗設備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NIE-4000 IBE離子束刻蝕機：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

高分辨二次離子質譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段，憑借質譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能，廣泛應用于醫(yī)學、細胞學、地質礦物學、半導體、微電子...

SurfaceSeer I是一款高靈敏度、高質量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質譜儀（TOF-SIMS），可以用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。Su...

Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀，用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。SurfaceSeer ...

Kore SurfaceSeer S在飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）系列中，是一款高性價比且經久耐用的產品。它是研究樣品表面化學成分的理想選擇，適用...

微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，...

光學鍍膜設備：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統(tǒng)提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

光學鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統(tǒng)提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

進口ALD設備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機械手，也可以升級...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、...