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AL76C立式微波等離子去膠清洗機(jī)：AL76C為一體式緊湊型等離子系統(tǒng)，適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機(jī)：AL76等離子系統(tǒng)適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機(jī)：AL18等離子系統(tǒng)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的*設(shè)備。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備，...

NIE-3500（M）離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、...

NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

NPD-4000（A）全自動PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)：脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素...

NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)：脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素組成。...

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩個(gè)腔體之間的門閥可以作為預(yù)真...

NTE-4000（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...

NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...

NTE-3500（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統(tǒng)：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有...

NMC-4000（M） MOCVD設(shè)備：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD...

NMC-3000等離子輔助MOCVD系統(tǒng)：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓...

NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足準(zhǔn)確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體...

NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于...