批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備 參考價：面議
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。
類鉆碳鍍膜設(shè)備 參考價：面議
類鉆碳鍍膜設(shè)備是一種無定形納米復(fù)合碳材料，具有與天然金剛石相似的特性，包括?低摩擦、高硬度和高耐腐蝕性。正確的涂層可以減少滑動磨損，而類鉆碳 (DLC)鍍膜機可...
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積 參考價：面議
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設(shè)備也變得更大，需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求...
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備 參考價：面議
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種使用ICP的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不...
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備 參考價：面議
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù)，利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備 參考價：面議
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種使用電漿的化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜...
化學(xué)氣相沉積 參考價：面議
化學(xué)氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環(huán)境中制造高質(zhì)量與高...
剝離成形電子束設(shè)備 參考價：面議
剝離成形電子束設(shè)備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift-Off制...
超高真空電子束蒸鍍設(shè)備 參考價：面議
超高真空電子束蒸鍍設(shè)備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要，因為實驗通常要求，在...
電子束蒸鍍設(shè)備 參考價：面議
電子束蒸鍍設(shè)備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計。單...
電子束蒸鍍 參考價：面議
電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場和磁場的驅(qū)動而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該...
有機材料熱蒸鍍設(shè)備 參考價：面議
有機材料熱蒸鍍設(shè)備：該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性。
金屬熱蒸鍍設(shè)備 參考價：面議
金屬熱蒸鍍設(shè)備：熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機和無機薄膜，其中以電阻式加熱法最為常...
熱蒸鍍設(shè)備 參考價：面議
熱蒸鍍設(shè)備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後...
FPD-PVD磁控濺鍍設(shè)備 參考價：面議
FPD-PVD磁控濺鍍設(shè)備針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PVD 設(shè)備，擁有4個單獨的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時保有彈性和具有選擇性的系統(tǒng)。
連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備 參考價：面議
連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內(nèi)。
多層膜磁控濺鍍設(shè)備 參考價：面議
多層膜磁控濺鍍設(shè)備廣泛用於各個領(lǐng)域，而對於精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中，高質(zhì)量多層膜的作用變得...
超高真空磁控濺鍍設(shè)備 參考價：面議
超高真空磁控濺鍍設(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見。
磁控共濺鍍設(shè)備 參考價：面議
磁控共濺鍍設(shè)備是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來控制薄膜品質(zhì)，...
磁控濺鍍 參考價：面議
磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術(shù)中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當(dāng)?shù)?..
具有分辨率的直接激光刻錄機 參考價：面議
具有分辨率的直接激光刻錄機PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分...
激光光刻系統(tǒng) 參考價：面議
激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好...
大面積 SEM 成像 參考價：面議
大面積 SEM 成像通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克
聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng) 參考價：面議
聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng)用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEMVELION 是一種用于納米科學(xué)與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB 納米加工...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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