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纳米压印光刻 (NIL) 解决方案——高性能光刻胶，助力纳米制造革命

——来自德国 micro resist technology，纳米压印光刻材料的行业先驱

核心优势

? Excellence的薄膜质量 | ? 高保真图案复制 | ? 优异的干法刻蚀性能
? 广泛的印章兼容性 | ? 定制化解决方案 | ? 符合工业级安全标准（ISO 9001 & 14001）

应用领域：

l光子学（超表面、光栅、AR/VR）

l下一代电子器件（纳米线、MEMS）

l生命科学与传感器（微流控芯片、生物传感器）

明星产品系列

1. UV-NIL 光刻胶

2.

2.

热压印（T-NIL）光刻胶

| mr-I 9000M | 热固性树脂，无玻璃化转变温度（Tg），耐高温 260°C，yongjiu光学透明 | 高温环境应用（如封装、光学透镜） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸碱/有机溶剂，超高紫外透过率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 创新工艺方案

NIL + 剥离工艺：结合 mr-NIL212FC/LOR 实现复杂金属纳米结构（如 200nm 金属网格）。

NIL + 深度刻蚀：通过含硅光刻胶 SiPOL 或硬掩模（SiO?）实现高深宽比结构放大。