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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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更新时间：2025-07-02 11:49:24浏览次数：1084
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显影机DEVELOPER
晶圆显影机的用途包括：
光刻工艺：在半导体制造中，光刻工艺是一种关键的工艺步骤，用于在晶圆表面形成微细的图案，以定义电路和器件的结构。晶圆显影机用于对光刻胶进行显影处理，形成所需的图案。
芯片制造：晶圆显影机也用于芯片制造过程中的显影步骤，帮助形成芯片上的电路图案和结构。
微纳加工：除了半导体制造，晶圆显影机还可以应用于微纳加工领域，用于制造微米级甚至纳米级的器件和结构。
显影机在半导体制造和微纳加工领域起着至关重要的作用，帮助实现微电子元件的精密制造和微米级结构的加工。
1. UNIXX D20 高级版
（直径200mm）带有可移动飞溅环的独立系统，用于手动装载/卸载单个基材。
2.UNIXX D30标准
（?300毫米）单机系统为用户提供
在科学方面，以及具有高效、安全和清洁系统的研究。
