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氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 1451
GM10/100/1000正極材料包覆PX 2762
Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIEPX 3531
NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng)PX 3249
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 3210
Compact ALD臺式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 3097
PICOSUN R-200標準型ALD系統(tǒng)PX 1550
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3150
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版PX 3390
TFS 200原子層沉積研究設備PX 1950
便攜式樣品傳送腔體PX 3779
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3637
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 5812
工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設備PX 1451
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1451
氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射PX 1451
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 1451
4/6英寸輻射式樣品臺系統(tǒng)PX 1451
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 1451
脈沖激光沉積樣品臺PX 1451
脈沖激光沉積靶臺PX 1451
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 1451
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1451
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1451
電漿原子層沉積設備PX 1451
原子層沉積設備2PX 1451
原子層沉積系統(tǒng)PX 1451
批量式電漿輔助氣相沉積設備PX 1451
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積PX 1451
感應耦合電漿化學氣相沉積設備PX 1451
低真空化學氣相沉積設備PX 1451
電漿輔助式化學氣相沉積設備PX 1451
化學氣相沉積PX 1451
PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200PX 1451
帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPDPX 1451
等離子沉積設備SI 500 DPX 1451
化學氣相沉積系統(tǒng)PX 1451
沉積系統(tǒng)PX 1451
SENTECH二維材料刻蝕沉積PX 1451
原子層沉積設備PX 1451
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
集成電路測試與分選設備
光刻及涂膠顯影設備
熱工藝設備/熱處理設備
硅片制備/晶體生長設備
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干法工藝設備
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其它半導體行業(yè)儀器設備
Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設備
PE鉑金埃爾默ICPMS
氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射
原子層沉積ALD
原子層沉積系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質譜
上海平軒科學儀器有限公司
對夾式蝶閥廠家
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